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東京エレクトロン株式会社

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  2021年 出願公開件数ランキング    第33位 878件 上昇2020年:第43位 773件)

  2021年 特許取得件数ランキング    第45位 515件 上昇2020年:第54位 436件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2021-50379 半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置 2021年 4月 1日
特開 2021-50380 ガス供給装置及びガス供給方法 2021年 4月 1日
特開 2021-50394 半導体装置の製造方法及び成膜装置 2021年 4月 1日
特開 2021-50416 原料ガス供給システム及び原料ガス供給方法 2021年 4月 1日
特開 2021-52031 真空搬送装置および真空搬送装置の制御方法 2021年 4月 1日
特開 2021-52032 誘電体部品、構造体及び基板処理装置 2021年 4月 1日
特開 2021-52033 金属酸化物膜の形成方法及び成膜装置 2021年 4月 1日
特開 2021-52034 金属酸化物膜の形成方法及び成膜装置 2021年 4月 1日
特開 2021-52039 エッチング方法、ダメージ層の除去方法、および記憶媒体 2021年 4月 1日
特開 2021-52064 成膜方法及び成膜装置 2021年 4月 1日
特開 2021-52065 検査装置の制御方法および検査装置 2021年 4月 1日
特開 2021-52066 成膜装置及び成膜方法 2021年 4月 1日
特開 2021-52069 成膜方法 2021年 4月 1日
特開 2021-52070 成膜方法 2021年 4月 1日
特開 2021-52071 成膜方法 2021年 4月 1日

882 件中 631-645 件を表示

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2021-50379 2021-50380 2021-50394 2021-50416 2021-52031 2021-52032 2021-52033 2021-52034 2021-52039 2021-52064 2021-52065 2021-52066 2021-52069 2021-52070 2021-52071

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