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東京エレクトロン株式会社

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  2021年 出願公開件数ランキング    第33位 878件 上昇2020年:第43位 773件)

  2021年 特許取得件数ランキング    第45位 515件 上昇2020年:第54位 436件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2021-57412 基板処理装置および基板処理方法 2021年 4月 8日
特開 2021-57439 成膜方法、及び成膜装置 2021年 4月 8日
特開 2021-57494 基板処理方法、及び基板処理装置 2021年 4月 8日
特開 2021-57522 基板支持器及びプラズマ処理装置 2021年 4月 8日
特開 2021-57523 基板処理方法、半導体デバイスの製造方法、及び、プラズマ処理装置 2021年 4月 8日
特開 2021-57525 基板処理方法、及び、プラズマ処理装置 2021年 4月 8日
特開 2021-57526 載置台及びプラズマ処理装置 2021年 4月 8日
特開 2021-57546 塗布、現像装置及び塗布、現像方法 2021年 4月 8日
特開 2021-57547 塗布、現像装置及び塗布、現像方法 2021年 4月 8日
特開 2021-57563 成膜方法 2021年 4月 8日
特開 2021-57572 基板支持器及びプラズマ処理装置 2021年 4月 8日
特開 2021-57618 基板処理装置 2021年 4月 8日
再表 2019-188453 基板処理装置、空調方法及び記憶媒体 2021年 4月 1日
特開 2021-50365 エッチング方法、及びエッチング装置 2021年 4月 1日
特開 2021-50366 エッチング装置及びエッチング方法 2021年 4月 1日

882 件中 616-630 件を表示

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2021-57412 2021-57439 2021-57494 2021-57522 2021-57523 2021-57525 2021-57526 2021-57546 2021-57547 2021-57563 2021-57572 2021-57618 2019-188453 2021-50365 2021-50366

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