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東京エレクトロン株式会社

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  2023年 出願公開件数ランキング    第31位 722件 下降2022年:第25位 842件)

  2023年 特許取得件数ランキング    第32位 762件 上昇2022年:第38位 690件)

(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2023-181081 エッチング方法及びプラズマ処理システム 2023年12月21日
特開 2023-181455 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 2023年12月21日
特開 2023-181511 液処理装置および液処理方法 2023年12月21日
特開 2023-180066 基板処理装置及び位置調整方法 2023年12月20日
特開 2023-180078 成膜方法及びプラズマ処理装置 2023年12月20日
特開 2023-179001 基板処理方法及び基板処理装置 2023年12月19日
特開 2023-179594 プラズマ処理装置及び基板支持台アセンブリ 2023年12月19日
特開 2023-179599 載置台及びプラズマ処理装置 2023年12月19日
特表 2023-552763 パターニングされた基板に形成された開口内の充填材を凹ませる方法 2023年12月19日
特開 2023-178837 基板処理方法及び基板処理装置 2023年12月18日
特開 2023-178889 情報処理装置、表示入力装置およびプログラム 2023年12月18日
特開 2023-178947 載置パッド、載置機構及び基板搬送機構 2023年12月18日
特開 2023-177658 熱処理装置、熱処理方法及び記憶媒体 2023年12月14日
特開 2023-177766 基板処理装置および基板処理方法 2023年12月14日
特開 2023-178083 クリーニング方法及び処理装置 2023年12月14日

725 件中 16-30 件を表示

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2023-181081 2023-181455 2023-181511 2023-180066 2023-180078 2023-179001 2023-179594 2023-179599 2023-552763 2023-178837 2023-178889 2023-178947 2023-177658 2023-177766 2023-178083

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