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東京エレクトロン株式会社

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  2023年 出願公開件数ランキング    第31位 722件 下降2022年:第25位 842件)

  2023年 特許取得件数ランキング    第32位 762件 上昇2022年:第38位 690件)

(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2023-178190 プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、圧力弁制御装置、圧力弁制御方法及び圧力調整システム 2023年12月14日
特開 2023-177133 検査装置及び検査方法 2023年12月13日
特開 2023-177146 情報処理装置及び選択支援方法 2023年12月13日
特開 2023-177195 検査装置及び載置台 2023年12月13日
特開 2023-175121 基板処理装置 2023年12月12日
特開 2023-174664 液処理装置、液処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 2023年12月 8日
特開 2023-173097 基板処理装置及び酸素混入抑制方法 2023年12月 7日
特開 2023-173100 シール構造、チャンバ、基板処理装置及びシール材の取り付け方法 2023年12月 7日
特開 2023-173116 監視方法及びプラズマ処理装置 2023年12月 7日
特開 2023-173302 基板処理方法及び基板処理装置 2023年12月 7日
特開 2023-173790 基板処理装置及びリング部材の位置合わせ方法 2023年12月 7日
特開 2023-173836 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 2023年12月 7日
特開 2023-173842 検査装置、および検査方法 2023年12月 7日
特開 2023-172116 接合装置および接合方法 2023年12月 6日
特開 2023-172255 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 2023年12月 6日

725 件中 31-45 件を表示

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2023-178190 2023-177133 2023-177146 2023-177195 2023-175121 2023-174664 2023-173097 2023-173100 2023-173116 2023-173302 2023-173790 2023-173836 2023-173842 2023-172116 2023-172255

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