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東京エレクトロン株式会社
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第27位 725件
（
2023年：第31位 722件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第25位 802件
（2023年：第32位 762件）
（ランキング更新日：2025年5月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7520203 | システム | 2024年 7月22日 | |
| 特許 7519243 | 搬送装置及び搬送方法 | 2024年 7月19日 | |
| 特許 7519244 | 液処理装置及び液処理装置の運転方法 | 2024年 7月19日 | |
| 特許 7519507 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2024年 7月19日 | |
| 特許 7519525 | 基板支持器及びプラズマ処理装置 | 2024年 7月19日 | |
| 特許 7516742 | 基板を処理する装置、処理ガスを濃縮する装置、及び基板を処理する方法 | 2024年 7月17日 | |
| 特許 7517446 | 半導体装置を製造する方法、及び半導体装置を製造する装置 | 2024年 7月17日 | |
| 特許 7516198 | エッチング装置及びエッチング方法 | 2024年 7月16日 | |
| 特許 7516203 | 基板処理方法及び基板処理システム | 2024年 7月16日 | |
| 特許 7516528 | 厚み測定装置及び厚み測定方法 | 2024年 7月16日 | |
| 特許 7515310 | 載置台、基板処理装置及び基板処理方法 | 2024年 7月12日 | |
| 特許 7515323 | 検査装置及び基板搬送方法 | 2024年 7月12日 | |
| 特許 7515327 | 基板離脱方法及びプラズマ処理装置 | 2024年 7月12日 | |
| 特許 7515340 | 真空処理装置、及び真空処理装置の制御方法 | 2024年 7月12日 | |
| 特許 7515357 | 研削装置 | 2024年 7月12日 |
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7520203 7519243 7519244 7519507 7519525 7516742 7517446 7516198 7516203 7516528 7515310 7515323 7515327 7515340 7515357
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