特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第27位　725件（2023年：第31位　722件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第25位　802件（2023年：第32位　762件）

（ランキング更新日：2025年1月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7528659	基板を加熱する装置及び方法	2024年 8月 6日
特許 7529362	基板処理装置、及び基板処理方法	2024年 8月 6日
特許 7529363	半導体製造システム、制御装置、制御方法及びプログラム	2024年 8月 6日
特許 7529364	研削装置	2024年 8月 6日
特許 7529412	プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置	2024年 8月 6日
特許 7529629	基板処理方法および基板処理装置	2024年 8月 6日
特許 7529902	エッチング方法及びプラズマ処理システム	2024年 8月 6日
特許 7528038	静電チャック、基板支持器、プラズマ処理装置及び静電チャックの製造方法	2024年 8月 5日
特許 7527150	基板処理装置及び搬送スケジュール作成方法	2024年 8月 2日
特許 7527180	気泡挙動検出システムおよび気泡挙動検出方法	2024年 8月 2日
特許 7527194	プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法	2024年 8月 2日
特許 7527237	ガス供給装置、ガス供給方法、および基板処理装置	2024年 8月 2日
特許 7527342	プラズマ処理装置、プラズマ状態検出方法およびプラズマ状態検出プログラム	2024年 8月 2日
特許 7526590	基板処理装置、制御方法、及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体	2024年 8月 1日
特許 7526611	加工システム及び加工方法	2024年 8月 1日

809 件中 331-345 件を表示

... 23

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

7528659 7529362 7529363 7529364 7529412 7529629 7529902 7528038 7527150 7527180 7527194 7527237 7527342 7526590 7526611

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数