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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第428位 76件
(2021年:第283位 135件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第234位 137件
(2021年:第250位 116件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7118099 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | 2022年 8月15日 | |
特許 7117336 | 半導体装置の製造方法、プログラム及び基板処理装置 | 2022年 8月12日 | |
特許 7117354 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム | 2022年 8月12日 | |
特許 7117398 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびヒータユニット | 2022年 8月12日 | |
特許 7114554 | 基板処理方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム | 2022年 8月 8日 | |
特許 7114763 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置、プログラム、および基板処理方法 | 2022年 8月 8日 | |
特許 7113862 | 半導体装置の製造方法、基板処理方法、プログラム、および基板処理装置 | 2022年 8月 5日 | |
特許 7113041 | クリーニング方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム | 2022年 8月 4日 | |
特許 7110468 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置、プログラム及び基板処理方法。 | 2022年 8月 1日 | |
特許 7110483 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム | 2022年 8月 1日 | |
特許 7103696 | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 | 2022年 7月20日 | |
特許 7102478 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、プログラム及び基板処理方法 | 2022年 7月19日 | |
特許 7101718 | 加熱部、温度制御システム、処理装置および半導体装置の製造方法 | 2022年 7月15日 | |
特許 7101204 | 半導体装置の製造方法、プログラム、基板処理装置及び基板処理方法 | 2022年 7月14日 | |
特許 7101283 | クリーニング方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム | 2022年 7月14日 |
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7118099 7117336 7117354 7117398 7114554 7114763 7113862 7113041 7110468 7110483 7103696 7102478 7101718 7101204 7101283
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2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月20日(木) - 東京 港区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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