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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第457位 67件 (2023年:第405位 81件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第396位 75件 (2023年:第265位 129件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7432373 | 反応管の洗浄方法、半導体装置の製造方法、及び基板処理装置 | 2024年 2月16日 | |
特許 7431210 | 基板処理装置、プラズマ生成装置、半導体装置の製造方法、プラズマ生成方法及びプログラム | 2024年 2月14日 | |
特許 7431343 | 基板処理方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム | 2024年 2月14日 | |
特許 7430677 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム | 2024年 2月13日 | |
特許 7429747 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム | 2024年 2月 8日 | |
特許 7429252 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、基板処理方法及びプログラム | 2024年 2月 7日 | |
特許 7426978 | 基板処理方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム | 2024年 2月 2日 | |
特許 7420777 | 半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置及びプログラム | 2024年 1月23日 | |
特許 7418603 | シール構造、基板処理装置及び半導体装置の製造方法 | 2024年 1月19日 | |
特許 7417569 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム | 2024年 1月18日 | |
特許 7413584 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム | 2024年 1月15日 | |
特許 7411696 | クリーニング方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置及びプログラム | 2024年 1月11日 | |
特許 7411699 | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 | 2024年 1月11日 | |
特許 7411820 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、プラズマ生成装置およびプログラム | 2024年 1月11日 | |
特許 7408772 | 基板処理装置、排気装置、半導体装置の製造方法、基板処理方法及びプログラム | 2024年 1月 5日 |
75 件中 61-75 件を表示
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7432373 7431210 7431343 7430677 7429747 7429252 7426978 7420777 7418603 7417569 7413584 7411696 7411699 7411820 7408772
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1月11日(土) -
1月11日(土) -
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1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月18日(土) -
1月14日(火) - 東京 港区
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