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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第452位 49件 (2023年:第405位 81件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第398位 55件 (2023年:第265位 129件)
(ランキング更新日:2024年9月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2024-45002 | 基板処理装置、プラズマ生成装置、プラズマ生成方法、基板処理方法、半導体装置の製造方法およびプログラム | 2024年 4月 2日 | |
特開 2024-45348 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、基板処理方法及びプログラム | 2024年 4月 2日 | |
特開 2024-42995 | 基板処理方法、半導体装置の製造方法、プログラム、および基板処理装置 | 2024年 3月29日 | |
特開 2024-43273 | 排気システム、基板処理装置及び半導体装置の製造方法 | 2024年 3月29日 | |
特開 2024-42227 | 変換用配管、基板処理装置および半導体装置の製造方法 | 2024年 3月28日 | |
特開 2024-42235 | 基板処理方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム | 2024年 3月28日 | |
特開 2024-42411 | 基板処理装置、基板処理方法、半導体装置を製造する方法及びプログラム | 2024年 3月28日 | |
特開 2024-41538 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、及びプログラム | 2024年 3月27日 | |
特開 2024-41539 | 基板処理装置、クリーニング方法、半導体装置の製造方法及びプログラム | 2024年 3月27日 | |
特開 2024-38745 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム | 2024年 3月21日 | |
特開 2024-28752 | 基板処理装置および半導体装置の製造方法 | 2024年 3月 5日 | |
特開 2024-21647 | 基板処理装置、基板処理方法、半導体装置の製造方法、クリーニング方法、およびプログラム | 2024年 2月16日 | |
特開 2024-22660 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、およびプログラム | 2024年 2月16日 | |
特開 2024-20926 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム | 2024年 2月15日 | |
特開 2024-16232 | 基板処理方法、基板処理装置、半導体装置の製造方法、およびプログラム | 2024年 2月 6日 |
49 件中 31-45 件を表示
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2024-45002 2024-45348 2024-42995 2024-43273 2024-42227 2024-42235 2024-42411 2024-41538 2024-41539 2024-38745 2024-28752 2024-21647 2024-22660 2024-20926 2024-16232
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