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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第188位 174件 (2023年:第146位 259件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7539873 | ベベルエッチャ用の下側プラズマ排除区域リング | 2024年 8月26日 | |
特許 7539912 | 半導体製造用途における摩擦攪拌接合 | 2024年 8月26日 | |
特許 7539931 | KHZ RF発生器の動作サイクル内でMHZ RF発生器を調節するためのシステムおよび方法 | 2024年 8月26日 | |
特許 7540043 | マルチステーション型堆積システムにおける膜厚整合のための、サイクル及び時間が可変のRF活性化方法 | 2024年 8月26日 | |
特許 7536451 | トランス結合容量性同調切り替えを用いたトランス結合プラズマパルス化のためのシステムおよび方法 | 2024年 8月20日 | |
特許 7535617 | 異方性パターンエッチングおよび処理のための方法および装置 | 2024年 8月16日 | |
特許 7534292 | He孔着火/アーク放電を防止する特徴を有する高出力静電チャック | 2024年 8月14日 | |
特許 7532598 | 高電力回路からの切り離しを伴わない静電容量測定 | 2024年 8月13日 | |
特許 7530874 | 可動エッジリング設計 | 2024年 8月 8日 | |
特許 7529741 | ラジカルおよび前駆体ガスを下流チャンバに供給して遠隔プラズマ膜蒸着を可能にするための温度制御を備えた統合シャワーヘッド | 2024年 8月 6日 | |
特許 7527361 | 基板処理システムの基板支持体の発熱体のための電源分離回路 | 2024年 8月 2日 | |
特許 7527456 | フォトレジストのドライ除去用プロセスツール | 2024年 8月 2日 | |
特許 7526767 | 半導体デバイス製造における酸化スズ膜 | 2024年 8月 1日 | |
特許 7524068 | MEMSコリオリ・ガス流量制御器 | 2024年 7月29日 | |
特許 7523629 | ウエハ裏面における堆積の低減のための可変温度ハードウェアおよび方法 | 2024年 7月26日 |
137 件中 46-60 件を表示
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7539873 7539912 7539931 7540043 7536451 7535617 7534292 7532598 7530874 7529741 7527361 7527456 7526767 7524068 7523629
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11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる!株式会社リコーによるシーズ発表会 ~リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか?~
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
【特別講演】第8回 前コミュ 生成AIでビジネスチャンスをつかむ前に、生成AI導入に待ち構える法的ハードルを越える方法 ~ つながりを育む出会いの場(知財ネットワーク交流会)~
12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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