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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第188位 174件 (2023年:第146位 259件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第221位 135件 (2023年:第292位 112件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7553468 | ガス送給用のモジュール式構成要素システム | 2024年 9月18日 | |
特許 7553489 | フォトレジスト膜のチャンバ乾式洗浄 | 2024年 9月18日 | |
特許 7553544 | 基板処理システム用の静電容量の変動が低減された可動エッジリング | 2024年 9月18日 | |
特許 7549097 | 交互のエッチングプロセスおよび不動態化プロセス | 2024年 9月10日 | |
特許 7547362 | シャワーヘッド覆い | 2024年 9月 9日 | |
特許 7547378 | 基板処理システム用フィルタボックス | 2024年 9月 9日 | |
特許 7546483 | 遠隔プラズマ膜蒸着を可能にするためにラジカルおよび前駆体ガスを下流チャンバに供給するための改良された孔パターンを備える統合シャワーヘッド | 2024年 9月 6日 | |
特許 7546000 | パターニングにおける反応性イオンエッチングのための重合保護層 | 2024年 9月 5日 | |
特許 7544726 | 半導体処理における異常プラズマ事象の検出および軽減 | 2024年 9月 3日 | |
特許 7542555 | 二重周波数、直接駆動誘導結合プラズマ源 | 2024年 8月30日 | |
特許 7542630 | 伸長RFストラップを有するインピーダンス整合器 | 2024年 8月30日 | |
特許 7541983 | 金属原子層のエッチング堆積装置および金属フリー配位子による処理 | 2024年 8月29日 | |
特許 7542001 | RFプラズマ・ツールにおける複数レベルのパルス化のためのシステム及び方法 | 2024年 8月29日 | |
特許 7539873 | ベベルエッチャ用の下側プラズマ排除区域リング | 2024年 8月26日 | |
特許 7539912 | 半導体製造用途における摩擦攪拌接合 | 2024年 8月26日 |
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7553468 7553489 7553544 7549097 7547362 7547378 7546483 7546000 7544726 7542555 7542630 7541983 7542001 7539873 7539912
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11月26日(火) - 東京 港区
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11月28日(木) -
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12月1日(日) -
12月1日(日) -
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