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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第188位 174件 (2023年:第146位 259件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第221位 135件 (2023年:第292位 112件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7571017 | 半導体製造における二相冷却 | 2024年10月22日 | |
特許 7571193 | 低角度拡散のマルチレベルパラメータおよび周波数パルス | 2024年10月22日 | |
特許 7569858 | 無線周波数支援プラズマ生成におけるインピーダンス変換 | 2024年10月18日 | |
特許 7568654 | 均一性調整のためのシャワーヘッドインサート | 2024年10月16日 | |
特許 7566873 | 複数の出力ポートを有する無線周波数電力発生器 | 2024年10月15日 | |
特許 7565916 | 処理チャンバの表面からの金属汚染物質の除去 | 2024年10月11日 | |
特許 7564088 | アーク発生を防止または抑制するための化学蒸着ツール | 2024年10月 8日 | |
特許 7562637 | マスク形状を制御し、選択性対プロセスマージンのトレードオフを破壊するためのマルチステートRFパルス | 2024年10月 7日 | |
特許 7562668 | 基板処理において均一性を実現する変圧器の使用のためのシステム及び方法 | 2024年10月 7日 | |
特許 7562696 | フォトレジストのドライ除去用プロセスツール | 2024年10月 7日 | |
特許 7561123 | エッチングチャンバーにおける方向性堆積 | 2024年10月 3日 | |
特許 7560492 | 可変インダクタ装置 | 2024年10月 2日 | |
特許 7557569 | 照射フォトレジストパターニングのための統合乾式プロセス | 2024年 9月27日 | |
特許 7555842 | 半導体プロセスモジュールからin-situで消耗部品を取り出して交換するためのシステム | 2024年 9月25日 | |
特許 7555909 | 高アスペクト比パターニング及び縦方向スケーリングのための膜スタック簡素化 | 2024年 9月25日 |
135 件中 16-30 件を表示
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7571017 7571193 7569858 7568654 7566873 7565916 7564088 7562637 7562668 7562696 7561123 7560492 7557569 7555842 7555909
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12月1日(日) -
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