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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第478位 71件
(2015年:第539位 62件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第563位 46件
(2015年:第376位 69件)
(ランキング更新日:2025年2月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2016-199807 | 電気メッキ中の電解液の監視 | 2016年12月 1日 | |
特開 2016-195108 | 傾斜した閉じ込めリングを有するプラズマ処理システム及びプラズマ処理構造 | 2016年11月17日 | |
特開 2016-188424 | 埋め込み電極を伴うガス分配セラミック板 | 2016年11月 4日 | |
特開 2016-186127 | シリコン貫通ビア内への銅の電着のための、ニッケルライナおよびコバルトライナの前処理 | 2016年10月27日 | |
特開 2016-181687 | ハードマスクのための金属誘電体膜の蒸着 | 2016年10月13日 | |
特開 2016-181893 | ホストコンピュータシステムとRF発生器と間のデュアルプッシュ | 2016年10月13日 | |
特開 2016-178316 | プラズマエッチングシステム | 2016年10月 6日 | |
特開 2016-178338 | 基板支持体、静電チャック、基板支持体の各熱領域を作成する方法、及び基板支持体の層を製造する方法 | 2016年10月 6日 | |
特開 2016-166405 | 基板処理システムにおいてハードマスクとして使用する非晶質炭素およびシリコン膜の金属ドーピング | 2016年 9月15日 | |
特開 2016-167606 | 半導体ウエハ処理装置、及び、半導体ウェハを処理する方法 | 2016年 9月15日 | |
特開 2016-164304 | 非晶質炭素ハードマスク膜の炭素‐水素含有量を減少させるシステムおよび方法 | 2016年 9月 8日 | |
特開 2016-165006 | 多重加熱器アレイのための故障検出の方法 | 2016年 9月 8日 | |
特開 2016-157940 | 窒化シリコンのエッチング時における超高選択比を達成するための方法 | 2016年 9月 1日 | |
特開 2016-154224 | 半導体製造チャンバ内の消耗部品の余寿命の推定 | 2016年 8月25日 | |
特開 2016-149574 | 静電チャックアセンブリ及びプラズマ処理装置 | 2016年 8月18日 |
71 件中 16-30 件を表示
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2016-199807 2016-195108 2016-188424 2016-186127 2016-181687 2016-181893 2016-178316 2016-178338 2016-166405 2016-167606 2016-164304 2016-165006 2016-157940 2016-154224 2016-149574
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