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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第468位 71件
(
2015年:第513位 62件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第563位 46件
(
2015年:第376位 69件)
(ランキング更新日:2026年10月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2016-103632 | エネルギー吸収体ガスへの衝突共鳴エネルギー伝達によるプラズマのVUV放出の調節 | 2016年 6月 2日 | |
| 特開 2016-86161 | 排出流の方向が単一のバッファステーション | 2016年 5月19日 | |
| 特開 2016-82233 | マルチモードパルスプロセスにおいてプロセス点を検出するためのシステム及び方法 | 2016年 5月16日 | |
| 特開 2016-81933 | プラズマシステムでの不良に関連する構成要素の識別 | 2016年 5月16日 | |
| 特開 2016-72625 | プラズマ援用原子層堆積におけるRF補償のための方法及び装置 | 2016年 5月 9日 | |
| 特開 2016-66794 | ALDにより形成される窒化シリコン膜の表面形状内ウェットエッチング速度を均一に低下させるための方法及び装置 | 2016年 4月28日 | |
| 特開 2016-63223 | 裏面成膜を低減し、基板端部の厚さ変化を緩和するシステムおよび方法 | 2016年 4月25日 | |
| 特開 2016-63221 | 寄生プラズマを抑制してウエハ内での不均一性を低減するための基板処理システム | 2016年 4月25日 | |
| 特開 2016-63226 | プラズマ処理チャンバの構成部品を洗浄する湿式洗浄工程 | 2016年 4月25日 | |
| 特開 2016-58727 | 自己整合コンタクト方式のための犠牲プレメタル誘電体 | 2016年 4月21日 | |
| 特開 2016-54303 | 加熱プレートおよび基板支持体 | 2016年 4月14日 | |
| 特開 2016-54159 | プラズマ処理システムを制御するための方法および装置 | 2016年 4月14日 | |
| 特開 2016-51900 | 高アスペクト比構造におけるコンタクト洗浄 | 2016年 4月11日 | |
| 特開 2016-46532 | コバルトの間隙をボイドなしで充填する方法及び装置 | 2016年 4月 4日 | |
| 特開 2016-46524 | シャワーヘッドの能動加熱および/またはペデスタルの冷却によって低温ALDシステム内で安定した蒸着速度制御を行うための方法および装置 | 2016年 4月 4日 |
71 件中 46-60 件を表示
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2016-103632 2016-86161 2016-82233 2016-81933 2016-72625 2016-66794 2016-63223 2016-63221 2016-63226 2016-58727 2016-54303 2016-54159 2016-51900 2016-46532 2016-46524
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10月13日(火) - オンライン
AI Native知財 - 私たちはどう生きるか? - 楠浦崇央 氏(TechnoProducer株式会社 代表取締役/発明塾 塾長) x 弁理士木本大介(リーガルテック株式会社アドバイザー)
10月13日(火) - 東京 港区
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企業の知財部員がすべき「知財実務手順の対応」 ~特許出願から明細書作成のノウハウ及び先行技術調査の基礎、特許権侵害の実務対応~
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生成AIを活用した技術&知財戦略の策定方法-生成AIを活用したアイデア発想とパテントマップ作成による勝てる技術&知財戦略の実践方法-
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〜発明が生まれる開発現場の知財力を強化する~一枚図解でわかる 新規性・進歩性 ──発明とは何なのかを理解して、その先のイノベーションへ!
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