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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第478位 71件 (2015年:第539位 62件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2016-103632 | エネルギー吸収体ガスへの衝突共鳴エネルギー伝達によるプラズマのVUV放出の調節 | 2016年 6月 2日 | |
特開 2016-86161 | 排出流の方向が単一のバッファステーション | 2016年 5月19日 | |
特開 2016-81933 | プラズマシステムでの不良に関連する構成要素の識別 | 2016年 5月16日 | |
特開 2016-82233 | マルチモードパルスプロセスにおいてプロセス点を検出するためのシステム及び方法 | 2016年 5月16日 | |
特開 2016-72625 | プラズマ援用原子層堆積におけるRF補償のための方法及び装置 | 2016年 5月 9日 | |
特開 2016-66794 | ALDにより形成される窒化シリコン膜の表面形状内ウェットエッチング速度を均一に低下させるための方法及び装置 | 2016年 4月28日 | |
特開 2016-63221 | 寄生プラズマを抑制してウエハ内での不均一性を低減するための基板処理システム | 2016年 4月25日 | |
特開 2016-63223 | 裏面成膜を低減し、基板端部の厚さ変化を緩和するシステムおよび方法 | 2016年 4月25日 | |
特開 2016-63226 | プラズマ処理チャンバの構成部品を洗浄する湿式洗浄工程 | 2016年 4月25日 | |
特開 2016-58727 | 自己整合コンタクト方式のための犠牲プレメタル誘電体 | 2016年 4月21日 | |
特開 2016-54159 | プラズマ処理システムを制御するための方法および装置 | 2016年 4月14日 | |
特開 2016-54303 | 加熱プレートおよび基板支持体 | 2016年 4月14日 | |
特開 2016-51900 | 高アスペクト比構造におけるコンタクト洗浄 | 2016年 4月11日 | |
特開 2016-44361 | オンデマンド充填アンプル | 2016年 4月 4日 | |
特開 2016-46524 | シャワーヘッドの能動加熱および/またはペデスタルの冷却によって低温ALDシステム内で安定した蒸着速度制御を行うための方法および装置 | 2016年 4月 4日 |
71 件中 46-60 件を表示
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2016-103632 2016-86161 2016-81933 2016-82233 2016-72625 2016-66794 2016-63221 2016-63223 2016-63226 2016-58727 2016-54159 2016-54303 2016-51900 2016-44361 2016-46524
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11月22日(金) -
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
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11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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