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ラム リサーチ コーポレーション

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  2017年 出願公開件数ランキング    第490位 79件 下降2016年:第478位 71件)

  2017年 特許取得件数ランキング    第896位 24件 下降2016年:第563位 46件)

(ランキング更新日:2024年11月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2017-199898 バッフルプレートおよびシャワーヘッドアセンブリならびに対応する製造方法 2017年11月 2日
特開 2017-199904 マルチステーション型堆積システムにおける膜厚整合のための、サイクル及び時間が可変のRF活性化方法 2017年11月 2日
特開 2017-199909 ALEおよび選択的蒸着を用いた基板のエッチング 2017年11月 2日
特開 2017-195365 終点検出のためのエッチング測定感度 2017年10月26日
特開 2017-191940 半導体処理用の交流駆動を用いる多重ヒータアレイ 2017年10月19日
特開 2017-188434 より低い周波数のRF発生器の周期においてより高いRF発生器に向かって反射する電力を低減し、反射電力を低減させるための関係を用いるシステムおよび方法 2017年10月12日
特開 2017-183701 エッジリング特性評価を実行するためのシステムおよび方法 2017年10月 5日
特開 2017-175121 プラズマ源のチャンバ部材、および、基板C−リングの平行移動のために半径方向外側に配置されたリフトピンを備えるペデスタル 2017年 9月28日
特開 2017-166065 高純度でsp3結合を含む化学気相成長(CVD)ダイヤモンドコーティングを有するエッジリングのようなプラズマ処理システム用構成部材 2017年 9月21日
特開 2017-157836 プラズマおよび蒸気処理の組み合わせを用いたAL2O3の原子層エッチング 2017年 9月 7日
特開 2017-152684 付加製造されたガス分配マニホールド 2017年 8月31日
特開 2017-152685 付加製造されたガス分配マニホールド 2017年 8月31日
特開 2017-152688 電気的導通を用いたエンドエフェクタ平坦度の検証 2017年 8月31日
特開 2017-152689 不揮発性金属をパターニングするためのチャンバ 2017年 8月31日
特開 2017-143057 RF端子から隣接する非RF端子への電気絶縁破壊を避けるための装置および方法 2017年 8月17日

79 件中 16-30 件を表示

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2017-199898 2017-199904 2017-199909 2017-195365 2017-191940 2017-188434 2017-183701 2017-175121 2017-166065 2017-157836 2017-152684 2017-152685 2017-152688 2017-152689 2017-143057

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