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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第490位 79件
(2016年:第478位 71件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第896位 24件
(2016年:第563位 46件)
(ランキング更新日:2025年2月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2017-50535 | 半導体製造機器内の消耗部品の摩耗検出 | 2017年 3月 9日 | |
特開 2017-41631 | 静電チャック用の凸形の内面を有する環状エッジシール | 2017年 2月23日 | |
特開 2017-36493 | 原子層堆積中における化学物質の制御された分離および送出により低欠陥処理を可能にするシステムおよび方法 | 2017年 2月16日 | |
特開 2017-37831 | レシピセットの実行を同期化するためのシステム及び方法 | 2017年 2月16日 | |
特開 2017-37846 | 加熱プレートおよび基板支持体 | 2017年 2月16日 | |
特開 2017-34234 | ドープされた石英表面を備えるプラズマエッチング装置 | 2017年 2月 9日 | |
特開 2017-34245 | 感受性材料上にハロゲン化物含有ALD膜を統合する方法 | 2017年 2月 9日 | |
特開 2017-34257 | プラズマエッチング耐性コーティングを有するプラズマエッチングデバイス | 2017年 2月 9日 | |
特開 2017-25326 | 洗浄水溶液 | 2017年 2月 2日 | |
特開 2017-28268 | エッチングチャンバ部材としての、焼結ナノ結晶粒化イットリウムをベースとしたセラミックの使用 | 2017年 2月 2日 | |
特開 2017-20102 | 電解液供給生成装置 | 2017年 1月26日 | |
特開 2017-22368 | GaN及びその他のIII−V材料の原子層エッチング | 2017年 1月26日 | |
特開 2017-22392 | 半導体処理のための電子ビーム強化式分離型プラズマ源 | 2017年 1月26日 | |
特開 2017-14614 | オンデマンド充填アンプルの補充 | 2017年 1月19日 | |
特開 2017-14615 | フッ素含有量が少ないタングステン膜 | 2017年 1月19日 |
79 件中 61-75 件を表示
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2017-50535 2017-41631 2017-36493 2017-37831 2017-37846 2017-34234 2017-34245 2017-34257 2017-25326 2017-28268 2017-20102 2017-22368 2017-22392 2017-14614 2017-14615
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パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
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