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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第341位 108件
(
2020年:第499位 66件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第407位 63件
(
2020年:第614位 36件)
(ランキング更新日:2025年12月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6812142 | 縁における膜厚の均一性を向上させるための、プラズマの抑制とウエハの縁との分離 | 2021年 1月13日 | |
| 特許 6812450 | パターン形成プロセスを制御する方法、リソグラフィ装置、メトロロジ装置リソグラフィックセル、および関連するコンピュータプログラム | 2021年 1月13日 | |
| 特許 6807659 | レシピセットの実行を同期化するためのシステム及び方法 | 2021年 1月 6日 | |
| 特許 6809885 | 基板におけるイオンビームの入射角の制御 | 2021年 1月 6日 |
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6812142 6812450 6807659 6809885
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【大阪会場】 前田知財塾 ~スキルアップ編~ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く! 第2回 「特許権侵害判断・回避構造の検討」
12月19日(金) - 神奈川 川崎市
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