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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第341位 108件
(2020年:第499位 66件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第407位 63件
(2020年:第614位 36件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6945975 | ガス供給システム | 2021年10月 6日 | |
特許 6940273 | ウエハ裏面における堆積の低減のための可変温度ハードウェアおよび方法 | 2021年 9月22日 | |
特許 6934705 | ハードマスクのための金属誘電体膜の蒸着 | 2021年 9月15日 | |
特許 6935985 | 原子スケールのALD(原子層堆積)プロセスとALE(原子層エッチング)プロセスとの統合 | 2021年 9月15日 | |
特許 6930826 | 熱閉塞体を備える静電チャック | 2021年 9月 1日 | |
特許 6921524 | 半導体処理装置においてシャワーヘッド傾斜を動的に調整するためのアクチュエータ | 2021年 8月18日 | |
特許 6916303 | 可動エッジリング設計 | 2021年 8月11日 | |
特許 6918451 | エッジリングアセンブリおよびプラズマ処理のためのシステム | 2021年 8月11日 | |
特許 6918460 | カルコゲナイド材料を封止する方法 | 2021年 8月11日 | |
特許 6912179 | 正面開口式リングポッド | 2021年 8月 4日 | |
特許 6908426 | マルチステーション型堆積システムにおける膜厚整合のための、サイクル及び時間が可変のRF活性化方法 | 2021年 7月28日 | |
特許 6909034 | バッフルプレートおよびシャワーヘッドアセンブリならびに対応する製造方法 | 2021年 7月28日 | |
特許 6909590 | より低い周波数のRF発生器の周期においてより高いRF発生器に向かって反射する電力を低減し、反射電力を低減させるための関係を用いるプラズマシステム、制御装置および方法 | 2021年 7月28日 | |
特許 6912164 | 流れ均一性を改善させるためのフェースプレート穴を有する低容積シャワーヘッド | 2021年 7月28日 | |
特許 6904665 | 高温基板台座モジュール及びその構成要素 | 2021年 7月21日 |
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6945975 6940273 6934705 6935985 6930826 6921524 6916303 6918451 6918460 6912179 6908426 6909034 6909590 6912164 6904665
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