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ラム リサーチ コーポレーション

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  2023年 出願公開件数ランキング    第146位 259件 上昇2022年:第198位 187件)

  2023年 特許取得件数ランキング    第292位 112件 上昇2022年:第512位 53件)

(ランキング更新日:2025年6月6日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2023-52669 複数のステーションシステムにおいてプラズマを平準化するために使用されるモジュール式レシピ制御較正(MRCC)装置 2023年 4月11日
特表 2023-514830 半導体処理チャンバの構成要素を調整する方法 2023年 4月11日
特表 2023-514831 グラフェン集積化 2023年 4月11日
特表 2023-514839 基板処理台座のための内部フィンを備えた冷却剤チャネル 2023年 4月11日
特表 2023-514841 局所的な裏面堆積を防止するためのウエハリフトピン機構 2023年 4月11日
特表 2023-514842 裏面反応性阻害ガス 2023年 4月11日
特表 2023-514496 伸長RFストラップを有するインピーダンス整合器 2023年 4月 6日
特表 2023-514497 局所応力調整のためのUV硬化 2023年 4月 6日
特表 2023-514547 プラズマ処理システムにおけるRF信号接地帰還の最適化 2023年 4月 6日
特表 2023-514548 プラズマ処理システムのためのRF信号フィルタ構成 2023年 4月 6日
特表 2023-514549 基板処理用の静電エッジリング取り付けシステム 2023年 4月 6日
特表 2023-514634 半導体用高弾性ホウ素系セラミックス 2023年 4月 6日
特表 2023-514065 自動回転プリアライメントを用いたエッジリング搬送 2023年 4月 5日
特表 2023-513938 ヒートスプレッダを備えた高温基板支持体 2023年 4月 4日
特表 2023-513771 無限選択性を有する高アスペクト比エッチング 2023年 4月 3日

259 件中 181-195 件を表示

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2023-52669 2023-514830 2023-514831 2023-514839 2023-514841 2023-514842 2023-514496 2023-514497 2023-514547 2023-514548 2023-514549 2023-514634 2023-514065 2023-513938 2023-513771

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