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ラム リサーチ コーポレーション

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  2023年 出願公開件数ランキング    第146位 259件 上昇2022年:第198位 187件)

  2023年 特許取得件数ランキング    第292位 112件 上昇2022年:第512位 53件)

(ランキング更新日:2024年11月29日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2023-520035 調節ガスの局所供給用エッジリング 2023年 5月15日
特開 2023-65471 冷却ガス区画および対応する溝ならびに単極静電クランプ電極パターンを備える静電チャック 2023年 5月12日
特表 2023-519708 塩素を用いた高アスペクト比誘電体エッチング 2023年 5月12日
特表 2023-519306 レーザ透過型センサを用いたウエハの厚さおよびギャップのその場モニタリング 2023年 5月10日
特表 2023-518718 シャワーヘッドパージカラー 2023年 5月 8日
特表 2023-518837 基板処理チャンバ用の誘電体窓 2023年 5月 8日
特開 2023-62052 小さい角発散でピークイオンエネルギ増強を達成するためのシステムおよび方法 2023年 5月 2日
特表 2023-518201 基板処理システムにおいてプラズマを生成するために電力を供給する直接駆動システム用のRF基準測定回路 2023年 4月28日
特表 2023-517668 C2H2のような炭素成膜前駆体の安定化 2023年 4月26日
特表 2023-517769 プラズマ処理チャンバの調整方法 2023年 4月26日
特表 2023-517291 モリブデンの原子層エッチング 2023年 4月25日
特表 2023-516944 放射状ガスカーテンおよび/または内部容積制御を備えたウエハハンドリングロボット 2023年 4月21日
特表 2023-516588 EUVパターニングにおける欠陥低減のための多層ハードマスク 2023年 4月20日
特表 2023-516739 調節可能エッジシースシステム用のパルスRF信号における電圧設定点の調節 2023年 4月20日
特表 2023-516490 基板処理システム用のスタッドアレイ付き接合層を含む基板支持台 2023年 4月19日

259 件中 151-165 件を表示

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2023-520035 2023-65471 2023-519708 2023-519306 2023-518718 2023-518837 2023-62052 2023-518201 2023-517668 2023-517769 2023-517291 2023-516944 2023-516588 2023-516739 2023-516490

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