特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エフ　イー　アイ　カンパニ

※ ログインすれば出願人(エフ　イー　アイ　カンパニ)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2023年出願公開件数ランキング　　　第628位　47件（2022年：第830位　32件）

　■　2023年特許取得件数ランキング　　　第1177位　18件（2022年：第1135位　19件）

（ランキング更新日：2024年11月11日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2024年

エフ　イー　アイ　カンパニの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2023-110909	自動的な粒子ビーム合焦	2023年 8月 9日
特開 2023-107756	荷電粒子顕微鏡法におけるフィードバックによるステージ整定時間の自動調整	2023年 8月 3日
特開 2023-99521	高反応性材料のサンプルリフトアウトを実施するためのシステム及び方法	2023年 7月13日
特開 2023-99525	高反応性材料のサンプルリフトアウトを実施するためのシステム及び方法	2023年 7月13日
特開 2023-99340	クライオ電子顕微鏡による画像化のために１つ以上の分子の試料を調製する方法及び装置	2023年 7月12日
特開 2023-99341	静電ミラー色収差補正器	2023年 7月12日
特開 2023-94598	ビーム位置を決定するための方法及びシステム	2023年 7月 5日
特開 2023-89965	改善されたミリング精度のための顕微鏡的フィードバック	2023年 6月28日
特開 2023-88885	熱モデリングに基づく熱ドリフト補正	2023年 6月27日
特開 2023-76814	真空対応Ｘ線遮蔽体	2023年 6月 2日
特開 2023-76412	試料を画像化及びミリングする方法	2023年 6月 1日
特開 2023-67845	試料移送のための方法及びシステム	2023年 5月16日
特開 2023-51785	フィラメントレス電子源	2023年 4月11日
特開 2023-51852	軸外電子ビームに調整可能なコマ収差を提供するための電子光学モジュール	2023年 4月11日
特開 2023-51853	元素マッピングのための方法およびシステム	2023年 4月11日

47 件中 16-30 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2023-110909 2023-107756 2023-99521 2023-99525 2023-99340 2023-99341 2023-94598 2023-89965 2023-88885 2023-76814 2023-76412 2023-67845 2023-51785 2023-51852 2023-51853

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エフ　イー　アイ　カンパニの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数