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エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第425位 74件
（
2023年：第405位 81件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第488位 54件
（
2023年：第1516位 13件）
（ランキング更新日：2025年1月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2024-161046 | 周期的堆積プロセスによって基材の誘電体表面上にモリブデン金属膜を堆積させる方法および関連する半導体デバイス構造 | 2024年11月15日 | |
| 特開 2024-159655 | 固体原料化学物質の気化器 | 2024年11月 8日 | |
| 特開 2024-159774 | 反応チャンバーにおいて循環堆積プロセスにより基材上に酸化ハフニウムランタン膜を堆積させるための方法 | 2024年11月 8日 | |
| 特開 2024-154393 | 静電チャックを備える基板処理装置 | 2024年10月30日 | |
| 特開 2024-137830 | 半導体構造を形成する方法 | 2024年10月 7日 | |
| 特開 2024-127842 | 基材処理システムにおける制御された環境を監視するためのシステム及び方法 | 2024年 9月20日 | |
| 特開 2024-122905 | 膜均一性改善能力を有するウエハ処理装置 | 2024年 9月 9日 | |
| 特開 2024-120932 | 金属含有材料ならびに金属含有材料を含む膜および構造体を形成するための周期的堆積方法 | 2024年 9月 5日 | |
| 特開 2024-109535 | 膜堆積および制御のための方法、アセンブリ、およびシステム | 2024年 8月14日 | |
| 特開 2024-106981 | 共有排気ユニット、および共有排気ユニットを含む基材処理装置 | 2024年 8月 8日 | |
| 特開 2024-104742 | 半導体製造加工のための重り付きリフトピン構造 | 2024年 8月 5日 | |
| 特開 2024-101550 | 前駆体圧力を制御するための弁パルシング | 2024年 7月29日 | |
| 特開 2024-96048 | 遠隔固体補充チャンバ | 2024年 7月11日 | |
| 特開 2024-96049 | アキュムレータのための方法および装置 | 2024年 7月11日 | |
| 特開 2024-96051 | アンチモン含有膜の形成および利用方法ならびに関連構造 | 2024年 7月11日 |
74 件中 16-30 件を表示
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2024-161046 2024-159655 2024-159774 2024-154393 2024-137830 2024-127842 2024-122905 2024-120932 2024-109535 2024-106981 2024-104742 2024-101550 2024-96048 2024-96049 2024-96051
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