特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー

※ ログインすれば出願人(エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第425位　74件（2023年：第405位　81件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第488位　54件（2023年：第1516位　13件）

（ランキング更新日：2025年1月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2025年

エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2024-31872	基板処理装置	2024年 3月 7日
特開 2024-25708	サセプターリフトツールのための方法及び装置	2024年 2月26日
特開 2024-23152	半導体ウエハ収容カセットを処理するためのシステム、組み合わせ、および搬送する方法	2024年 2月21日
特開 2024-23223	低温でのＳｉＮの堆積用Ｓｉ前駆体	2024年 2月21日
特開 2024-22522	複数の基板上に層を形成するためのウエハボートおよび方法	2024年 2月16日
特開 2024-19061	半導体製造監視工程	2024年 2月 8日
特開 2024-19074	前駆体レベル測定のための静電容量センサシステムおよびそのための方法	2024年 2月 8日
特開 2024-16088	固体原料昇華器	2024年 2月 6日
特開 2024-9207	周期的堆積プロセスによって基材上に遷移金属含有膜を形成する方法、遷移金属ハロゲン化物化合物を反応チャンバーに供給する方法、及び関連蒸着装置	2024年 1月19日
特開 2024-7421	デュアルモデルベースの温度コントローラ	2024年 1月18日
特開 2024-7511	クロスフローを有する複数の基板を処理するための半導体処理装置	2024年 1月18日
特開 2024-7520	非接触通信機器を有する半導体製造装置	2024年 1月18日
特開 2024-986	ガス流量制御能力を有する半導体基板を処理するための反応チャンバ	2024年 1月 9日
特開 2024-1340	有機膜の気相堆積	2024年 1月 9日

74 件中 61-74 件を表示

... 5

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2024-31872 2024-25708 2024-23152 2024-23223 2024-22522 2024-19061 2024-19074 2024-16088 2024-9207 2024-7421 2024-7511 2024-7520 2024-986 2024-1340

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数