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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第494位 24件
（
2024年：第630位 43件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第614位 16件
（
2024年：第431位 65件）
（ランキング更新日：2025年6月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2025-35779 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2025年 3月14日 | |
| 特開 2025-32712 | 荷電粒子ビーム装置 | 2025年 3月12日 | |
| 特開 2025-32755 | マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2025年 3月12日 | |
| 特開 2025-29213 | 描画装置及び描画方法 | 2025年 3月 5日 | |
| 特開 2025-27703 | 描画データ生成方法、描画データ生成装置、荷電粒子ビーム描画装置、及びプログラム | 2025年 2月28日 | |
| 特開 2025-24968 | ビーム位置測定方法及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2025年 2月21日 | |
| 特開 2025-21788 | マルチ電子ビーム照射装置及びマルチ電子ビーム照射方法 | 2025年 2月14日 | |
| 特開 2025-21789 | マルチ電子ビーム照射装置及びマルチ電子ビーム照射方法 | 2025年 2月14日 | |
| 特開 2025-21790 | マルチ電子ビーム照射装置及びマルチ電子ビーム照射方法 | 2025年 2月14日 | |
| 特開 2025-17157 | 荷電粒子ビーム描画装置、放電検出方法及び放電検出装置 | 2025年 2月 5日 | |
| 特開 2025-15221 | ステージ位置計測システムの非線形誤差測定方法 | 2025年 1月30日 | |
| 特開 2025-376 | 描画データの図形内線分交差判定方法、描画データの図形内線分交差判定装置、プログラム、及び電子ビーム描画装置 | 2025年 1月 7日 |
27 件中 16-27 件を表示
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2025-35779 2025-32712 2025-32755 2025-29213 2025-27703 2025-24968 2025-21788 2025-21789 2025-21790 2025-17157 2025-15221 2025-376
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