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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第455位 76件 (2015年:第570位 57件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第525位 51件 (2015年:第272位 103件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2016-56086 | 単結晶の製造方法 | 2016年 4月21日 | |
特開 2016-58424 | 結晶欠陥の評価方法及びウェーハの製造方法 | 2016年 4月21日 | |
特開 2016-58641 | ボロンドープp型シリコンウェーハの金属汚染評価方法および評価装置、ならびにボロンドープp型シリコンウェーハの製造方法 | 2016年 4月21日 | |
特開 2016-51729 | 半導体エピタキシャルウェーハおよびその製造方法、ならびに、固体撮像素子の製造方法 | 2016年 4月11日 | |
特開 2016-51763 | シリコンウェーハの研磨方法 | 2016年 4月11日 | |
特開 2016-36857 | ワークの研磨方法およびワークの研磨装置 | 2016年 3月22日 | |
特開 2016-30699 | シリコン単結晶の製造方法 | 2016年 3月 7日 | |
特開 2016-32035 | エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法 | 2016年 3月 7日 | |
特開 2016-28249 | シリカガラスルツボの気泡分布の三次元分布の決定方法、シリコン単結晶の製造方法 | 2016年 2月25日 | |
特開 2016-23099 | 単結晶の製造方法及び製造装置 | 2016年 2月 8日 | |
特開 2016-17866 | DNAチップ及びその製造方法 | 2016年 2月 1日 | |
特開 2016-17867 | バイオチップ及びその製造方法 | 2016年 2月 1日 | |
特開 2016-18822 | 半導体基板表面の有機物汚染評価方法およびその利用 | 2016年 2月 1日 | |
特開 2016-18927 | エピタキシャルシリコンウェーハおよびその製造方法 | 2016年 2月 1日 | |
特開 2016-7664 | 研削装置および研削方法 | 2016年 1月18日 |
76 件中 61-75 件を表示
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2016-56086 2016-58424 2016-58641 2016-51729 2016-51763 2016-36857 2016-30699 2016-32035 2016-28249 2016-23099 2016-17866 2016-17867 2016-18822 2016-18927 2016-7664
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11月22日(金) -
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
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11月25日(月) - 岐阜 各務原市
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11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
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11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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