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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第207位 254件
(2016年:第200位 217件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第227位 136件
(2016年:第268位 121件)
(ランキング更新日:2025年6月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6211053 | フィードスルー構造体を備える基板支持体 | 2017年10月11日 | |
特許 6211086 | 基板処理システム及び基板を処理する方法 | 2017年10月11日 | |
特許 6211168 | 薄膜封入−OLEDに適用する薄型超高度バリア層 | 2017年10月11日 | |
特許 6207496 | レーザによる基板のダイシング及びプラズマエッチング用の多層マスク | 2017年10月 4日 | |
特許 6207648 | チャンバー蓋ヒーターリングアセンブリ | 2017年10月 4日 | |
特許 6207780 | ピクセル化された容量制御ESC | 2017年10月 4日 | |
特許 6204917 | アルゴンガス希釈によるシリコン含有層を堆積するための方法 | 2017年 9月27日 | |
特許 6198584 | エピタキシャル成長による成膜方法、および、エピタキシャル成長装置 | 2017年 9月20日 | |
特許 6198727 | マルチステップ・非対称形状レーザビームスクライビング | 2017年 9月20日 | |
特許 6200486 | シームレスのコバルト間隙充填を可能にする方法 | 2017年 9月20日 | |
特許 6195519 | 静電チャック及びその使用方法 | 2017年 9月13日 | |
特許 6192060 | 誘電体材料の堆積速度および成長動態を高める多重周波数スパッタリング | 2017年 9月 6日 | |
特許 6192719 | 気相化学曝露による低誘電率誘電体の損傷修復 | 2017年 9月 6日 | |
特許 6189350 | インサイチュチャンバ処理および堆積プロセス | 2017年 8月30日 | |
特許 6184981 | 回転式基板処理システム | 2017年 8月23日 |
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6211053 6211086 6211168 6207496 6207648 6207780 6204917 6198584 6198727 6200486 6195519 6192060 6192719 6189350 6184981
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