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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第207位 254件
(2016年:第200位 217件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第227位 136件
(2016年:第268位 121件)
(ランキング更新日:2025年6月26日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6180510 | ESCの接着剤の浸食を防止するための方法及び装置 | 2017年 8月16日 | |
特許 6180512 | 研磨剤粒子を有する印刷による化学機械研磨パッド | 2017年 8月16日 | |
特許 6180541 | 処理チャンバガス流装置、システム、及び方法 | 2017年 8月16日 | |
特許 6180935 | 真空プロセス・チャンバの構成部品及び製造方法 | 2017年 8月16日 | |
特許 6181075 | 原子水素を用いて基板表面を洗浄するための方法及び装置 | 2017年 8月16日 | |
特許 6181156 | 研磨のインシトゥ監視時にデータをフィルタリングするための線形予測 | 2017年 8月16日 | |
特許 6182116 | 電子デバイス製造システムの操作を改善する方法及び装置 | 2017年 8月16日 | |
特許 6182535 | 改善された摩擦測定を使用する基板研磨終点検出のためのシステムおよび方法 | 2017年 8月16日 | |
特許 6182536 | 改善された摩擦測定を使用する基板研磨検出のためのシステムおよび方法 | 2017年 8月16日 | |
特許 6176633 | レガシーハードウェアおよびソフトウェアに対する強化された再ホスティング性能 | 2017年 8月 9日 | |
特許 6177567 | 対称プラズマ処理チャンバ | 2017年 8月 9日 | |
特許 6178488 | 電子デバイス製造における基板の処理に適合される処理システム、装置、及び方法 | 2017年 8月 9日 | |
特許 6168823 | 対称性を有するプラズマ処理装置および蓋アセンブリ | 2017年 7月26日 | |
特許 6164754 | 薄膜バッテリ製造の方法及びそのための設備 | 2017年 7月19日 | |
特許 6158199 | 水蒸気処理を使用して基板から材料層を除去する方法 | 2017年 7月 5日 |
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6180510 6180512 6180541 6180935 6181075 6181156 6182116 6182535 6182536 6176633 6177567 6178488 6168823 6164754 6158199
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