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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第172位 256件
(
2017年:第207位 254件)
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(
2017年:第227位 136件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6333285 | 基板処理チャンバ構成要素用の熱放射バリア | 2018年 5月30日 | |
| 特許 6333941 | 高温処理チャンバリッド及びそれを備えた処理チャンバ | 2018年 5月30日 | |
| 特許 6335341 | 可変型温度制御式基板支持アセンブリ | 2018年 5月30日 | |
| 特許 6327755 | 単体静電チャック | 2018年 5月23日 | |
| 特許 6328556 | プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法 | 2018年 5月23日 | |
| 特許 6328766 | 有機材料用の蒸発源、真空チャンバの中で有機材料を堆積させるための堆積装置、及び有機材料を蒸発させるための方法 | 2018年 5月23日 | |
| 特許 6329614 | 誘導結合プラズマ(ICP)リアクタ用動的イオンラジカルシーブ及びイオンラジカルアパーチャ | 2018年 5月23日 | |
| 特許 6329941 | マルチゾーン加熱を有する基板支持体のための方法および装置 | 2018年 5月23日 | |
| 特許 6330006 | チャンバ内の基板を感知するための方法および装置 | 2018年 5月23日 | |
| 特許 6330087 | 対称給電構造を有する基板サポート | 2018年 5月23日 | |
| 特許 6324938 | 高効率/高精度ヒータドライバ | 2018年 5月16日 | |
| 特許 6325647 | GaNベースのオプトエレクトロニックデバイスおよび電子デバイス用の酸素制御したPVDAlNバッファ | 2018年 5月16日 | |
| 特許 6321021 | 薄膜電気化学デバイスのパターニングのための回折光学素子及び方法 | 2018年 5月 9日 | |
| 特許 6321172 | 熱エネルギー伝達低減のための基板キャリア | 2018年 5月 9日 | |
| 特許 6321237 | 新規の熱処理装置 | 2018年 5月 9日 |
158 件中 91-105 件を表示
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6333285 6333941 6335341 6327755 6328556 6328766 6329614 6329941 6330006 6330087 6324938 6325647 6321021 6321172 6321237
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日常実務の疑問点に答える著作権(周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
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