特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第172位　256件（2017年：第207位　254件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第188位　158件（2017年：第227位　136件）

（ランキング更新日：2025年6月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6333285	基板処理チャンバ構成要素用の熱放射バリア	2018年 5月30日
特許 6333941	高温処理チャンバリッド及びそれを備えた処理チャンバ	2018年 5月30日
特許 6335341	可変型温度制御式基板支持アセンブリ	2018年 5月30日
特許 6327755	単体静電チャック	2018年 5月23日
特許 6328556	プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法	2018年 5月23日
特許 6328766	有機材料用の蒸発源、真空チャンバの中で有機材料を堆積させるための堆積装置、及び有機材料を蒸発させるための方法	2018年 5月23日
特許 6329614	誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）リアクタ用動的イオンラジカルシーブ及びイオンラジカルアパーチャ	2018年 5月23日
特許 6329941	マルチゾーン加熱を有する基板支持体のための方法および装置	2018年 5月23日
特許 6330006	チャンバ内の基板を感知するための方法および装置	2018年 5月23日
特許 6330087	対称給電構造を有する基板サポート	2018年 5月23日
特許 6324938	高効率／高精度ヒータドライバ	2018年 5月16日
特許 6325647	ＧａＮベースのオプトエレクトロニックデバイスおよび電子デバイス用の酸素制御したＰＶＤＡｌＮバッファ	2018年 5月16日
特許 6321021	薄膜電気化学デバイスのパターニングのための回折光学素子及び方法	2018年 5月 9日
特許 6321172	熱エネルギー伝達低減のための基板キャリア	2018年 5月 9日
特許 6321237	新規の熱処理装置	2018年 5月 9日

158 件中 91-105 件を表示

... 7

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6333285 6333941 6335341 6327755 6328556 6328766 6329614 6329941 6330006 6330087 6324938 6325647 6321021 6321172 6321237

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数