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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第172位 256件 (2017年:第207位 254件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第188位 158件 (2017年:第227位 136件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6322582 | ロードカップ内の基板を感知するための方法および装置 | 2018年 5月 9日 | |
特許 6316794 | 終点検出のためのスペクトル特徴部の動的または適応的な追跡 | 2018年 4月25日 | |
特許 6318254 | ガス供給を制御するための方法及びコントローラ | 2018年 4月25日 | |
特許 6312791 | 薄膜封止用N2O希釈プロセスによるバリア膜性能の向上 | 2018年 4月18日 | |
特許 6314110 | ハロゲン含有プラズマに露出された表面の浸食速度を減じる装置及び方法 | 2018年 4月18日 | |
特許 6308716 | 対称プラズマ処理チャンバ | 2018年 4月11日 | |
特許 6309252 | エピタキシャル成長による成膜方法、および、エピタキシャル成長装置 | 2018年 4月11日 | |
特許 6305929 | 閉ループ制御 | 2018年 4月 4日 | |
特許 6306030 | シャドーフレームサポート | 2018年 4月 4日 | |
特許 6306747 | 電場/磁場案内された酸拡散 | 2018年 4月 4日 | |
特許 6306861 | プラズマチャンバーにおいて半導体ワークピースを取り巻く導電性カラー | 2018年 4月 4日 | |
特許 6307062 | タッチパネルで使用される透明体ならびにその製作方法および装置 | 2018年 4月 4日 | |
特許 6300451 | 対称プラズマ処理チャンバ | 2018年 3月28日 | |
特許 6303024 | 真空プロセス下で基板を保持する保持アレンジメント、基板上に層を堆積する装置、及び保持アレンジメントを搬送する方法 | 2018年 3月28日 | |
特許 6297301 | 細長い領域のモニタリングを用いるインシトゥモニタシステム | 2018年 3月20日 |
158 件中 106-120 件を表示
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6322582 6316794 6318254 6312791 6314110 6308716 6309252 6305929 6306030 6306747 6306861 6307062 6300451 6303024 6297301
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11月22日(金) -
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11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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