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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第172位 256件
（
2017年：第207位 254件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第188位 158件
（2017年：第227位 136件）
（ランキング更新日：2025年6月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6283433 | 薄膜電池のマスクレス製造 | 2018年 2月21日 | |
| 特許 6278584 | プラズマチャンバ部品用耐プラズマコーティング | 2018年 2月14日 | |
| 特許 6275713 | 高度なデバイスのウェハ上の粒子性能に対して化学的適合性のあるコーティング材料 | 2018年 2月 7日 | |
| 特許 6275755 | 物理的気相堆積用のチャンバ | 2018年 2月 7日 | |
| 特許 6276259 | 電気化学デバイスのマイクロ波急速熱処理 | 2018年 2月 7日 | |
| 特許 6277277 | 真空処理装置用の基板スプレッディングデバイス、基板スプレッディングデバイスを有する真空処理装置、及びそれを動作させる方法 | 2018年 2月 7日 | |
| 特許 6272808 | 可変容量性チューナおよびフィードバック回路を有する物理的気相堆積 | 2018年 1月31日 | |
| 特許 6272830 | 低エッチング速度のハードマスク膜のための酸素ドーピングを伴うＰＶＤＡＬＮ膜 | 2018年 1月31日 | |
| 特許 6272850 | 物理的気相成長法による窒化アルミニウムの緩衝及び活性層 | 2018年 1月31日 | |
| 特許 6272873 | 炭窒化ケイ素の選択的エッチング | 2018年 1月31日 | |
| 特許 6272934 | エピタキシャル堆積プロセス及び装置 | 2018年 1月31日 | |
| 特許 6272945 | 多数の光ヘッドからのスペクトルの収集 | 2018年 1月31日 | |
| 特許 6267400 | ３Ｄ ＮＡＮＤハードマスク用途向けナノ結晶ダイヤモンド炭素膜 | 2018年 1月24日 | |
| 特許 6268091 | 流量コントローラのインシトゥ較正の方法 | 2018年 1月24日 | |
| 特許 6268092 | 照明システム | 2018年 1月24日 |
158 件中 136-150 件を表示
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6283433 6278584 6275713 6275755 6276259 6277277 6272808 6272830 6272850 6272873 6272934 6272945 6267400 6268091 6268092
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