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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第172位 256件
(2017年:第207位 254件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第188位 158件
(2017年:第227位 136件)
(ランキング更新日:2025年6月26日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6297597 | 調整可能な電極を有する堆積源 | 2018年 3月20日 | |
特許 6297607 | 半導体プロセスチャンバ内で使用するためのスパッタ源 | 2018年 3月20日 | |
特許 6298059 | 差異的な酸化ケイ素エッチング | 2018年 3月20日 | |
特許 6298060 | ウェハ処理機器の化学制御機構 | 2018年 3月20日 | |
特許 6298232 | 基板冷却を備えた搬送ロボット | 2018年 3月20日 | |
特許 6292819 | 選択的スペクトルモニタリングを使用した終点決定 | 2018年 3月14日 | |
特許 6293064 | セラミックコーティングを有する熱処理されたセラミック基板及びコートされたセラミックスへの熱処理 | 2018年 3月14日 | |
特許 6290275 | 高度なRF及び温度の均一性を備えた静電チャック | 2018年 3月 7日 | |
特許 6290997 | 新規の熱処理装置 | 2018年 3月 7日 | |
特許 6285446 | 割り送り式インライン基板処理ツール | 2018年 2月28日 | |
特許 6285926 | ブーム駆動装置、マルチアームロボット装置、電子デバイス処理システム、および電子デバイス製造システムにおいて基板を搬送するための方法 | 2018年 2月28日 | |
特許 6286463 | 高温測定のための加熱源反射フィルタを含む装置 | 2018年 2月28日 | |
特許 6281958 | カスタマイズ可能な流れの注入を伴うエピタキシャルチャンバ | 2018年 2月21日 | |
特許 6282437 | 研磨パッドコンディショナ用ダンパ | 2018年 2月21日 | |
特許 6283332 | 蒸着ユニット及び真空コーティング装置 | 2018年 2月21日 |
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6297597 6297607 6298059 6298060 6298232 6292819 6293064 6290275 6290997 6285446 6285926 6286463 6281958 6282437 6283332
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