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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第141位 330件
(2018年:第172位 256件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第156位 176件
(2018年:第188位 158件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6545460 | ロードロック構成内の除害・剥離処理チャンバ | 2019年 7月17日 | |
特許 6546930 | 薄膜処理用途のための装置及び方法 | 2019年 7月17日 | |
特許 6542245 | 射出アセンブリ付きの上方ドーム | 2019年 7月10日 | |
特許 6542854 | セラミックコーティングを有する熱処理されたセラミック基板及びコートされたセラミックスへの熱処理 | 2019年 7月10日 | |
特許 6543461 | フェムト秒レーザ及びプラズマエッチングを用いたウェハダイシング | 2019年 7月10日 | |
特許 6543466 | 物理的に除去可能なマスクを用いたレーザ・プラズマエッチングウェハダイシング | 2019年 7月10日 | |
特許 6543664 | 真空堆積チャンバ | 2019年 7月10日 | |
特許 6538194 | 物体を保持、位置づけし、移動させるための装置 | 2019年 7月 3日 | |
特許 6538710 | 物体を移動および/または位置決めするための搬送装置 | 2019年 7月 3日 | |
特許 6535685 | 静的反応性スパッタ処理のための処理ガスセグメンテーション | 2019年 6月26日 | |
特許 6533601 | 蒸発源 | 2019年 6月19日 | |
特許 6533835 | 基板を処理する方法、及び基板を保持するための基板キャリア | 2019年 6月19日 | |
特許 6529973 | バッチ処理用傾斜プレート及びその使用方法 | 2019年 6月12日 | |
特許 6530755 | 回転可能な被加熱静電チャック | 2019年 6月12日 | |
特許 6525452 | 高密度低エネルギープラズマによる半導体表面の界面処理 | 2019年 6月 5日 |
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6545460 6546930 6542245 6542854 6543461 6543466 6543664 6538194 6538710 6535685 6533601 6533835 6529973 6530755 6525452
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