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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2019年 出願公開件数ランキング    第141位 330件 上昇2018年:第172位 256件)

  2019年 特許取得件数ランキング    第156位 176件 上昇2018年:第188位 158件)

(ランキング更新日:2025年2月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2019-536281 選択的エッチング速度モニタ 2019年12月12日
特表 2019-536290 プロセスチャンバキャリアのための静電チャッキング力測定ツール 2019年12月12日
特開 2019-212910 基板支持台座 2019年12月12日
特表 2019-534938 材料堆積装置、真空堆積システム、及び真空堆積を行う方法 2019年12月 5日
特開 2019-206470 セラミックコーティングを有する熱処理されたセラミック基板及びコートされたセラミックスへの熱処理 2019年12月 5日
特開 2019-206750 金属ケイ素化合物層を形成する方法及びそこから形成された金属ケイ素化合物層 2019年12月 5日
特開 2019-206761 処理チャンバにおいて基板をマスキングするためのマスク構成 2019年12月 5日
特開 2019-208023 端部均一性制御のための可調整チューニングリングを有するプロセスキット 2019年12月 5日
特開 2019-208024 端部均一性制御のための可調整チューニングリングを有するプロセスキット 2019年12月 5日
特開 2019-208025 端部均一性制御のための可調整チューニングリングを有するプロセスキット 2019年12月 5日
特開 2019-208041 シャワーヘッド支持構造 2019年12月 5日
特開 2019-208049 方位角方向及び半径方向分布制御を備えたマルチゾーンガス注入アセンブリ 2019年12月 5日
特開 2019-208064 シャドーフレームを除去するためのガス閉じ込め装置アセンブリ 2019年12月 5日
特表 2019-534384 パターニングのための膜の堆積及び処理 2019年11月28日
特表 2019-534455 インシトゥ電磁誘導モニタシステムのコア構成 2019年11月28日

330 件中 16-30 件を表示

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2019-536281 2019-536290 2019-212910 2019-534938 2019-206470 2019-206750 2019-206761 2019-208023 2019-208024 2019-208025 2019-208041 2019-208049 2019-208064 2019-534384 2019-534455

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