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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第141位 330件
(2018年:第172位 256件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第156位 176件
(2018年:第188位 158件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6518664 | 反射を削減する表面特徴部を含む基板支持体、及び基板支持体を製造するための製造技術 | 2019年 5月22日 | |
特許 6518666 | 薄い基板をハンドリングするための静電キャリア | 2019年 5月22日 | |
特許 6518725 | ラテラルプラズマ/ラジカル源 | 2019年 5月22日 | |
特許 6513082 | ダイの破壊強度を高め、側壁を平滑化するためのレーザスクライビング及びプラズマエッチング | 2019年 5月15日 | |
特許 6513089 | ガス流パターンを制御するための処理チャンバ装置、システム、及び方法 | 2019年 5月15日 | |
特許 6513201 | 材料堆積装置、真空堆積システム、及び材料堆積方法 | 2019年 5月15日 | |
特許 6514106 | 選択的なガス注入及び抽出のための装置 | 2019年 5月15日 | |
特許 6514706 | プロファイル均一性を改善するためのコーナースポイラー | 2019年 5月15日 | |
特許 6507421 | 半導体ウエハ用のアニールモジュール | 2019年 5月 8日 | |
特許 6509744 | フィルムフレームウェハアプリケーションのためのエッチングチャンバシールドリングを用いたレーザ・プラズマエッチングウェハダイシング | 2019年 5月 8日 | |
特許 6510008 | レーザパターニングのための一体化された光および熱遮蔽層を有する薄膜構造およびデバイス | 2019年 5月 8日 | |
特許 6506290 | 基板粒子生成が低減する基板支持装置 | 2019年 4月24日 | |
特許 6506757 | プロセスチャンバのインシトゥ洗浄のための方法および装置 | 2019年 4月24日 | |
特許 6507211 | PVDにより形成される窒化アルミニウム緩衝層を有する窒化ガリウムベースのLEDの製造 | 2019年 4月24日 | |
特許 6502396 | ハルバッハ配列によるマスクの磁気チャッキング | 2019年 4月17日 |
176 件中 121-135 件を表示
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6518664 6518666 6518725 6513082 6513089 6513201 6514106 6514706 6507421 6509744 6510008 6506290 6506757 6507211 6502396
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