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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第141位 330件
(2018年:第172位 256件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第156位 176件
(2018年:第188位 158件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6466955 | 側面数増強対応移送チャンバ、半導体デバイスの製造処理ツール及び処理方法 | 2019年 2月 6日 | |
特許 6456841 | 誘電体材料蒸発のためのプラズマ強化堆積設備、堆積装置及びその操作方法 | 2019年 1月23日 | |
特許 6456956 | 不純物が積層したエピタキシーのための装置 | 2019年 1月23日 | |
特許 6457498 | 半導体処理チャンバ用の被覆されたライナーアセンブリ | 2019年 1月23日 | |
特許 6457937 | 低k誘電体膜をパターニングする方法 | 2019年 1月23日 | |
特許 6453240 | 取り外し可能なガス分配プレートを有するシャワーヘッド | 2019年 1月16日 | |
特許 6453882 | 熱処理チャンバのための支持シリンダー | 2019年 1月16日 | |
特許 6449217 | 障壁表面上のコバルト堆積 | 2019年 1月 9日 | |
特許 6449224 | 基板上の高純度アルミニウムトップコート | 2019年 1月 9日 | |
特許 6449260 | プラズマチャンバ内での高速で再現性のあるプラズマの点火及び同調のための装置および方法 | 2019年 1月 9日 | |
特許 6449294 | 予熱部材をセルフセンタリングするための装置 | 2019年 1月 9日 |
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6466955 6456841 6456956 6457498 6457937 6453240 6453882 6449217 6449224 6449260 6449294
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