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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第138位 311件
(2019年:第141位 330件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第136位 210件
(2019年:第156位 176件)
(ランキング更新日:2025年6月6日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2020-510819 | 高温環境において高周波電力を測定するための電圧−電流プローブ、及び電圧−電流プローブを較正する方法 | 2020年 4月 9日 | |
特表 2020-510992 | 水蒸気および酸素の反応物を利用するプラズマ軽減技術 | 2020年 4月 9日 | |
特表 2020-510307 | 流動性CVDのためのディフューザー設計 | 2020年 4月 2日 | |
特表 2020-510311 | 反射終点検出を有するエッチング処理システム | 2020年 4月 2日 | |
特表 2020-510315 | 高圧ウエハ処理システム及び関連方法 | 2020年 4月 2日 | |
特表 2020-510319 | 基板を加熱し、ロードロック内の汚染を低減するための電子デバイス製造システム、方法、及び装置 | 2020年 4月 2日 | |
特表 2020-510320 | 電子デバイス製造装置、システム、及び方法における負荷ポート動作 | 2020年 4月 2日 | |
特開 2020-53396 | ダイレクトアップコンバージョンを用いてマイクロ波フィールドの回転周波数をデジタル制御するプラズマリアクタ | 2020年 4月 2日 | |
特表 2020-509239 | アンプルからのフラックスを増加させるための装置 | 2020年 3月26日 | |
特表 2020-509246 | マルチカソード基板処理のための方法および装置 | 2020年 3月26日 | |
特表 2020-509589 | 選択的エッチング処理後の基板上の粒子形成を低減する装置および方法 | 2020年 3月26日 | |
特開 2020-45489 | 高温静電チャック接着剤 | 2020年 3月26日 | |
特開 2020-47914 | ろう付けジョイント及びろう付けジョイントを有する半導体処理チャンバ構成要素 | 2020年 3月26日 | |
特表 2020-508397 | 処理チャンバのためのガス供給装置 | 2020年 3月19日 | |
特開 2020-43079 | 均一なプラズマ処理のためのノズル | 2020年 3月19日 |
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2020-510819 2020-510992 2020-510307 2020-510311 2020-510315 2020-510319 2020-510320 2020-53396 2020-509239 2020-509246 2020-509589 2020-45489 2020-47914 2020-508397 2020-43079
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