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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第132位 313件
(2020年:第138位 311件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第117位 241件
(2020年:第136位 210件)
(ランキング更新日:2025年6月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6924136 | 空間的原子層堆積におけるガス分離制御 | 2021年 8月25日 | |
特許 6924228 | スマートチャンバおよびスマートチャンバ構成要素 | 2021年 8月25日 | |
特許 6924324 | 基板を移動させる方法およびシステム | 2021年 8月25日 | |
特許 6924327 | 静電基板支持体幾何形状の研磨 | 2021年 8月25日 | |
特許 6924775 | 排気堆積物の除去のための温度制御された遠隔プラズマ洗浄 | 2021年 8月25日 | |
特許 6925976 | 熱CVD中にリガンドを並行して流すことにより高アスペクト比トレンチを充填するプロセス | 2021年 8月25日 | |
特許 6925977 | ウエハ処理システム向けの、ボルト留めされたウエハチャックの熱管理のシステム及び方法 | 2021年 8月25日 | |
特許 6920219 | 酸化ケイ素膜の選択的堆積 | 2021年 8月18日 | |
特許 6920309 | エッチングハードウェアに対する水素プラズマベース洗浄処理 | 2021年 8月18日 | |
特許 6920319 | 高生産性ソークアニールシステム | 2021年 8月18日 | |
特許 6920401 | ダイレクトアップコンバージョンを用いてマイクロ波フィールドの回転周波数をデジタル制御するプラズマリアクタ | 2021年 8月18日 | |
特許 6921931 | 熱質量が小さい加圧チャンバ | 2021年 8月18日 | |
特許 6915988 | PECVD微結晶シリコンゲルマニウム(SiGe) | 2021年 8月11日 | |
特許 6916186 | フッ素処理によるIGZOパッシベーションの酸素空孔 | 2021年 8月11日 | |
特許 6916281 | ディスプレイ製造用基板上での自動限界寸法測定方法、ディスプレイ製造用大面積基板の検査方法、ディスプレイ製造用大面積基板の検査装置及びその操作方法 | 2021年 8月11日 |
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