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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第132位 313件
(2020年:第138位 311件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第117位 241件
(2020年:第136位 210件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6948394 | 薄膜封止処理システムおよびプロセスキット | 2021年10月13日 | |
特許 6946320 | スペーサ用の窒化ケイ素膜の選択的堆積 | 2021年10月 6日 | |
特許 6946410 | スパッタ堆積源、スパッタ堆積装置及びスパッタ堆積源を操作する方法 | 2021年10月 6日 | |
特許 6946463 | ワードライン抵抗を低下させる方法 | 2021年10月 6日 | |
特許 6940495 | 所望のゼータ電位を有する研磨用物品を形成するための装置及び方法 | 2021年 9月29日 | |
特許 6940497 | CMPプロセスのトラッキングデータを3D印刷されたCMP消耗材と組み合わせるための技法 | 2021年 9月29日 | |
特許 6940589 | 堆積装置 | 2021年 9月29日 | |
特許 6941564 | 蒸発した材料を堆積させるための蒸発源、及び蒸発した材料を堆積させるための方法 | 2021年 9月29日 | |
特許 6941618 | 付加製造で製造される形状の補正 | 2021年 9月29日 | |
特許 6942121 | 基板キャリアシステム | 2021年 9月29日 | |
特許 6942188 | 低温窒化ケイ素膜のための方法及び装置 | 2021年 9月29日 | |
特許 6936884 | 改良されたフロー均一性/ガスコンダクタンスを備えた可変処理容積に対処するための対称チャンバ本体設計アーキテクチャ | 2021年 9月22日 | |
特許 6937354 | 高対称四重ガス注入によるプラズマリアクタ | 2021年 9月22日 | |
特許 6937753 | 融合されたカバーリング | 2021年 9月22日 | |
特許 6938585 | 一体型センサを有する化学機械研磨保持リング | 2021年 9月22日 |
242 件中 61-75 件を表示
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6948394 6946320 6946410 6946463 6940495 6940497 6940589 6941564 6941618 6942121 6942188 6936884 6937354 6937753 6938585
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