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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第132位 313件
(2020年:第138位 311件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第117位 241件
(2020年:第136位 210件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6954928 | ブリュースター角における二重波長シフトによる非接触温度測定 | 2021年10月27日 | |
特許 6954982 | 改良されたフロー均一性/ガスコンダクタンスを備えた可変処理容積に対処するための対称チャンバ本体設計アーキテクチャ | 2021年10月27日 | |
特許 6955023 | 静電チャックのための新しい修理方法 | 2021年10月27日 | |
特許 6955090 | 酸化ケイ素上における誘電体の選択的堆積のための方法 | 2021年10月27日 | |
特許 6955489 | 先進CMP及び凹部流れのための間隙充填膜の修正 | 2021年10月27日 | |
特許 6955592 | 化学機械研磨のための方法、システム、及び研磨パッド | 2021年10月27日 | |
特許 6951068 | ラテラルプラズマ/ラジカル源 | 2021年10月20日 | |
特許 6951257 | バッチ処理用注入器及びその使用方法 | 2021年10月20日 | |
特許 6951333 | ウエハのポイントバイポイント分析及びデータの提示 | 2021年10月20日 | |
特許 6951548 | 金属酸化物の後処理の方法 | 2021年10月20日 | |
特許 6951549 | 炭素化合物の堆積及び処理のためのマイクロ波リアクタ | 2021年10月20日 | |
特許 6952799 | 窒化ケイ素膜の高圧処理 | 2021年10月20日 | |
特許 6947734 | リアルタイムのプロセス評価 | 2021年10月13日 | |
特許 6947911 | 処理チャンバ用のマルチプレートフェースプレート | 2021年10月13日 | |
特許 6947914 | 高圧高温下のアニールチャンバ | 2021年10月13日 |
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6954928 6954982 6955023 6955090 6955489 6955592 6951068 6951257 6951333 6951548 6951549 6952799 6947734 6947911 6947914
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