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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第56位 541件
(2021年:第132位 313件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第112位 303件
(2021年:第117位 241件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7190570 | 非対称静電構成を有する静電フィルタおよびイオン注入装置 | 2022年12月15日 | |
特許 7189321 | 自己組織化単分子層を使用する選択的堆積のための方法 | 2022年12月13日 | |
特許 7186719 | インサイチュの半導体処理チャンバ温度装置 | 2022年12月 9日 | |
特許 7186234 | 堆積装置、フレキシブル基板をコーティングする方法、及びコーティングを有するフレキシブル基板 | 2022年12月 8日 | |
特許 7185725 | ウェハエッジリングの持ち上げに関する解決 | 2022年12月 7日 | |
特許 7184810 | 基板に堆積された膜の品質改善 | 2022年12月 6日 | |
特許 7183415 | 静電フィルタを用いてイオンビームを制御するための装置および方法 | 2022年12月 5日 | |
特許 7183443 | 交換可能なインターフェースプレートを有する再構成可能なメインフレーム | 2022年12月 5日 | |
特許 7182617 | 異常の検出及び類別 | 2022年12月 2日 | |
特許 7181899 | ハイブリッドレーザスクライビングおよびプラズマエッチングウエハ個片化プロセスのための光吸収マスク | 2022年12月 1日 | |
特許 7180999 | 複数の前駆体の流れのための半導体処理チャンバ | 2022年11月30日 | |
特許 7179063 | 導波結合器のダイレクトエッチング製造の方法 | 2022年11月28日 | |
特許 7179086 | 半導体後端工場をスケジューリングするための方法 | 2022年11月28日 | |
特許 7179172 | 半導体用途の構造体をエッチングするための方法 | 2022年11月28日 | |
特許 7177923 | 先進の半導体プロセス最適化および生産中の適応制御 | 2022年11月24日 |
303 件中 16-30 件を表示
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7190570 7189321 7186719 7186234 7185725 7184810 7183415 7183443 7182617 7181899 7180999 7179063 7179086 7179172 7177923
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