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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2022年 出願公開件数ランキング    第56位 541件 上昇2021年:第132位 313件)

  2022年 特許取得件数ランキング    第112位 303件 上昇2021年:第117位 241件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7190570 非対称静電構成を有する静電フィルタおよびイオン注入装置 2022年12月15日
特許 7189321 自己組織化単分子層を使用する選択的堆積のための方法 2022年12月13日
特許 7186719 インサイチュの半導体処理チャンバ温度装置 2022年12月 9日
特許 7186234 堆積装置、フレキシブル基板をコーティングする方法、及びコーティングを有するフレキシブル基板 2022年12月 8日
特許 7185725 ウェハエッジリングの持ち上げに関する解決 2022年12月 7日
特許 7184810 基板に堆積された膜の品質改善 2022年12月 6日
特許 7183415 静電フィルタを用いてイオンビームを制御するための装置および方法 2022年12月 5日
特許 7183443 交換可能なインターフェースプレートを有する再構成可能なメインフレーム 2022年12月 5日
特許 7182617 異常の検出及び類別 2022年12月 2日
特許 7181899 ハイブリッドレーザスクライビングおよびプラズマエッチングウエハ個片化プロセスのための光吸収マスク 2022年12月 1日
特許 7180999 複数の前駆体の流れのための半導体処理チャンバ 2022年11月30日
特許 7179063 導波結合器のダイレクトエッチング製造の方法 2022年11月28日
特許 7179086 半導体後端工場をスケジューリングするための方法 2022年11月28日
特許 7179172 半導体用途の構造体をエッチングするための方法 2022年11月28日
特許 7177923 先進の半導体プロセス最適化および生産中の適応制御 2022年11月24日

303 件中 16-30 件を表示

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7190570 7189321 7186719 7186234 7185725 7184810 7183415 7183443 7182617 7181899 7180999 7179063 7179086 7179172 7177923

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