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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2023年 出願公開件数ランキング    第32位 708件 上昇2022年:第56位 541件)

  2023年 特許取得件数ランキング    第80位 398件 上昇2022年:第112位 303件)

(ランキング更新日:2024年11月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2023-162172 半導体処理のモニタリングのための機械学習システム 2023年11月 8日
特開 2023-162195 複数のアライナを含む装置フロントエンドモジュール、アセンブリ、及び方法 2023年11月 8日
特開 2023-162196 エッチング選択性の高いアモルファスカーボン膜 2023年11月 8日
特開 2023-162199 化学機械研磨のためのテクスチャード加工された小型パッド 2023年11月 8日
特開 2023-162226 リソグラフィシステムのための自己整合システム及び方法 2023年11月 8日
特表 2023-546821 バイナリ重み付け電荷再分配回路のための適応型セトリング時間制御 2023年11月 8日
特表 2023-546871 CVD膜の欠陥を分析するためのシステム及び方法 2023年11月 8日
特表 2023-546872 光学装置のためのシースルー計測システム、装置、及び方法 2023年11月 8日
特表 2023-546873 光学装置のためのインライン計測システム、装置、及び方法 2023年11月 8日
特表 2023-546905 リアルタイムで製品基板を検出し補正するための、改良されたプロセスおよびハードウェアアーキテクチャ 2023年11月 8日
特表 2023-546949 引張性の窒化物堆積システム及び方法 2023年11月 8日
特表 2023-546967 HDP犠牲炭素間隙充填 2023年11月 8日
特表 2023-546699 処理チャンバ堆積閉じ込め 2023年11月 7日
特表 2023-546714 寄生プラズマ形成に対応するための半導体処理チャンバ 2023年11月 7日
特表 2023-546587 ハードマスク及びプラズマ化学気相堆積によるハードマスク形成のためのプロセス 2023年11月 6日

708 件中 91-105 件を表示

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2023-162172 2023-162195 2023-162196 2023-162199 2023-162226 2023-546821 2023-546871 2023-546872 2023-546873 2023-546905 2023-546949 2023-546967 2023-546699 2023-546714 2023-546587

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