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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2023年 出願公開件数ランキング    第32位 708件 上昇2022年:第56位 541件)

  2023年 特許取得件数ランキング    第80位 398件 上昇2022年:第112位 303件)

(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2023-548257 シャッタディスクアセンブリを用いた内部分割可能なプロセスチャンバ 2023年11月16日
特表 2023-548282 表面弾性波センサアセンブリ 2023年11月16日
特開 2023-164786 材料構造を改良するための処理 2023年11月14日
特表 2023-547839 プラズマ処理応用のための磁石保持構造 2023年11月14日
特表 2023-547840 静電チャック用のリアルタイムのバイアス検出及び補正 2023年11月14日
特表 2023-547907 三次元ダイナミックランダムアクセスメモリ(DRAM)及びその形成方法 2023年11月14日
特表 2023-547370 多層PECVD TEOS酸化物膜における欠陥の低減方法 2023年11月10日
特表 2023-547376 アモルファスシリコン及び酸化による薄い酸化物層の成長 2023年11月10日
特表 2023-547379 処理チャンバをシーズニングする方法 2023年11月10日
特表 2023-547382 スループットの向上と移送時間の短縮を実現する半導体処理チャンバ 2023年11月10日
特表 2023-547044 プラズマエッチングウエハの単一化プロセス用シャドーリングキット 2023年11月 9日
特表 2023-547087 高温双極静電チャック 2023年11月 9日
特表 2023-547089 ハードマスクを形成する方法 2023年11月 9日
特表 2023-547098 ゲートオールアラウンドデバイスの形成 2023年11月 9日
特開 2023-162157 膜の位置制御を有する研磨ヘッド 2023年11月 8日

708 件中 76-90 件を表示

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2023-548257 2023-548282 2023-164786 2023-547839 2023-547840 2023-547907 2023-547370 2023-547376 2023-547379 2023-547382 2023-547044 2023-547087 2023-547089 2023-547098 2023-162157

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