特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2023年出願公開件数ランキング　　　第32位　708件（2022年：第56位　541件）

　■　2023年特許取得件数ランキング　　　第80位　398件（2022年：第112位　303件）

（ランキング更新日：2025年12月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2024年 2025年

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2023-549801	ディスプレイフロントパネルデバイス	2023年11月29日
特表 2023-549823	エッジクランプによる薄型基板ハンドリングのための堆積リング	2023年11月29日
特表 2023-549869	独立型マルチチャネルシャワーヘッドを用いたフォトレジスト堆積	2023年11月29日
特表 2023-549527	エッジクランプによる薄型基板ハンドリング	2023年11月27日
特表 2023-549528	容量結合プラズマを用いた酸化ケイ素間隙の充填	2023年11月27日
特開 2023-168332	洗浄および表面処理のための原子状酸素およびオゾン装置	2023年11月24日
特表 2023-548989	アイソレータリングクランプおよびそれを組み込んだ物理的気相堆積チャンバ	2023年11月22日
特表 2023-549224	プロセスチャンバにガスを供給するための装置およびシステム	2023年11月22日
特開 2023-166383	ＣＭＰ用の保持リング	2023年11月21日
特開 2023-166392	統合温度制御を有するモノリシックモジュラーマイクロ波源	2023年11月21日
特開 2023-166416	トランジスタのヒ素拡散プロファイルエンジニアリング	2023年11月21日
特開 2023-166424	モノリシックモジュラー高周波プラズマ源	2023年11月21日
特開 2023-166444	拡大画像の取得およびストレージ	2023年11月21日
特表 2023-548779	光学装置のためのシースルー計測システム、装置、及び方法	2023年11月21日
特表 2023-548256	低抵抗および低応力のタングステン間隙充填のための方法および装置	2023年11月16日

708 件中 61-75 件を表示

... 5

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2023-549801 2023-549823 2023-549869 2023-549527 2023-549528 2023-168332 2023-548989 2023-549224 2023-166383 2023-166392 2023-166416 2023-166424 2023-166444 2023-548779 2023-548256

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数