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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第36位 407件
(2024年:第41位 605件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第33位 414件
(2024年:第47位 555件)
(ランキング更新日:2025年9月8日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7641322 | ヒータペデスタル上の基板の位置を測定するための方法および装置 | 2025年 3月 6日 | |
特許 7641324 | プロセスキットの中心合わせ測定のための方法及び装置 | 2025年 3月 6日 | |
特許 7641404 | 自己整合ビット線プロセスによりDRAMをスケーリングする方法 | 2025年 3月 6日 | |
特許 7640463 | 金属間隙充填を形成するための方法 | 2025年 3月 5日 | |
特許 7640475 | 光学デバイス及び前記光学デバイスが配置される開孔を有する開孔構造を形成する方法 | 2025年 3月 5日 | |
特許 7640553 | 制御された冷却を伴う物理的気相堆積(PVD)によってアルミニウムを堆積させるための方法及び装置 | 2025年 3月 5日 | |
特許 7640562 | 研磨中のインシトゥモニタリングで使用するためのニューラルネットワークをトレーニングするための技術及び研磨システム | 2025年 3月 5日 | |
特許 7640648 | 研磨パッドの溝を使用した、ウェハ縁部の非対称性の補正 | 2025年 3月 5日 | |
特許 7640740 | マスク洗浄のためのマルチ空間ベーキングチャンバ | 2025年 3月 5日 | |
特許 7639118 | パッケージ製造のためのレーザアブレーションシステム | 2025年 3月 4日 | |
特許 7637769 | 基板を空間的複数基板処理ツール中へ及びそこから移送するための装置及び方法 | 2025年 2月28日 | |
特許 7637786 | 双極子膜を用いたMOSFETゲートエンジニアリング | 2025年 2月28日 | |
特許 7637268 | プラズマチャンバ及びチャンバ部品の洗浄方法 | 2025年 2月27日 | |
特許 7636398 | 低温熱式流量比コントローラ | 2025年 2月26日 | |
特許 7636490 | 化学機械研磨のための水蒸気生成 | 2025年 2月26日 |
414 件中 301-315 件を表示
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7641322 7641324 7641404 7640463 7640475 7640553 7640562 7640648 7640740 7639118 7637769 7637786 7637268 7636398 7636490
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