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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第36位 416件
（
2024年：第41位 605件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第33位 418件
（2024年：第47位 555件）
（ランキング更新日：2025年9月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7637786 | 双極子膜を用いたＭＯＳＦＥＴゲートエンジニアリング | 2025年 2月28日 | |
| 特許 7637268 | プラズマチャンバ及びチャンバ部品の洗浄方法 | 2025年 2月27日 | |
| 特許 7636398 | 低温熱式流量比コントローラ | 2025年 2月26日 | |
| 特許 7636490 | 化学機械研磨のための水蒸気生成 | 2025年 2月26日 | |
| 特許 7636580 | 半導体処理チャンバにおける回転式バイアス可能なペデスタル及び静電チャック | 2025年 2月26日 | |
| 特許 7634930 | 銅配線のためのシード層 | 2025年 2月25日 | |
| 特許 7635126 | ＳｉＯＣフィルムの酸化の低減 | 2025年 2月25日 | |
| 特許 7635197 | 半導体処理システム用のマルチリッド構造 | 2025年 2月25日 | |
| 特許 7635265 | 完全自己整合サブトラクティブエッチング | 2025年 2月25日 | |
| 特許 7635306 | 裏側物理的気相堆積の方法及び装置 | 2025年 2月25日 | |
| 特許 7635318 | トランジスタのヒ素拡散プロファイルエンジニアリング | 2025年 2月25日 | |
| 特許 7635323 | フッ素および金属ハロゲン化物を使用した金属酸化物のエッチング | 2025年 2月25日 | |
| 特許 7635361 | 流量制御装置において使用するための微小電気機械デバイス | 2025年 2月25日 | |
| 特許 7635399 | ＲＦ四重極粒子加速器 | 2025年 2月25日 | |
| 特許 7635424 | フォトマスクの処理方法及び装置 | 2025年 2月25日 |
418 件中 316-330 件を表示
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7637786 7637268 7636398 7636490 7636580 7634930 7635126 7635197 7635265 7635306 7635318 7635323 7635361 7635399 7635424
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