特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2025年出願公開件数ランキング　　　第36位　416件（2024年：第41位　605件）

　■　2025年特許取得件数ランキング　　　第33位　418件（2024年：第47位　555件）

（ランキング更新日：2025年9月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7625725	高アスペクト比特徴における金属エッチング	2025年 2月 3日
特許 7624312	フレキシブル基板を誘導するためのローラデバイス、フレキシブル基板を搬送するためのローラデバイスの使用、真空処理装置、及びフレキシブル基板を処理する方法	2025年 1月30日
特許 7624502	電力ベースのヘッドルーム制御を有する電気めっきコントローラ	2025年 1月30日
特許 7623352	非接触温度測定を用いた基板を処理するための方法および装置	2025年 1月28日
特許 7623374	酸素ラジカル支援による誘電体膜の高密度化	2025年 1月28日
特許 7622034	同時基板移送用ロボット	2025年 1月27日
特許 7622237	エピタキシチャンバ及びＣＶＤチャンバのためのガスインジェクタ	2025年 1月27日
特許 7622300	センサレスＲＦインピーダンス整合ネットワーク	2025年 1月27日
特許 7621474	光学装置のためのシースルー計測システム、装置、及び方法	2025年 1月24日
特許 7620609	同時基板移送用ロボット	2025年 1月23日
特許 7620667	チャンバ表面およびプロセスのインシトゥ光学センサ	2025年 1月23日
特許 7620001	半導体処理チャンバ及びそれを洗浄するための方法	2025年 1月22日
特許 7620046	フレキシブルカバーレンズのための多層乾湿ハードコート	2025年 1月22日
特許 7618579	静電チャックプロセス	2025年 1月21日
特許 7618681	化学機械研磨のための蒸気発生の制御	2025年 1月21日

418 件中 361-375 件を表示

... 25

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

7625725 7624312 7624502 7623352 7623374 7622034 7622237 7622300 7621474 7620609 7620667 7620001 7620046 7618579 7618681

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数