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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第444位 78件
(2015年:第473位 71件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第483位 58件
(2015年:第1019位 20件)
(ランキング更新日:2025年6月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2016-533063 | 可変電圧読出クロック信号を有するTDI撮像システム | 2016年10月20日 | |
特表 2016-531316 | 極紫外光の発生のためのシステムおよび方法 | 2016年10月 6日 | |
特表 2016-531413 | 多重極の電極構造を組み込んだ電子エミッタデバイス | 2016年10月 6日 | |
特開 2016-178331 | センサ・ウェーハ、及びセンサ・ウェーハを製造する方法 | 2016年10月 6日 | |
特表 2016-530525 | ブロック間レチクル検査 | 2016年 9月29日 | |
特表 2016-530576 | 低ノイズ高安定性の深紫外線連続波レーザー | 2016年 9月29日 | |
特表 2016-529551 | 半導体ターゲットの計測のための示差法及び装置 | 2016年 9月23日 | |
特表 2016-529686 | 標的設計及び製造における誘導自己組織化 | 2016年 9月23日 | |
特表 2016-528478 | 欠陥検出を強化するための最良の開口及びモードを発見するための装置及び方法 | 2016年 9月15日 | |
特表 2016-528497 | フォトマスク欠陥性における変化の監視 | 2016年 9月15日 | |
特開 2016-167634 | デザイナ・インテント・データを使用するウェハとレチクルの検査の方法およびシステム | 2016年 9月15日 | |
特表 2016-527501 | スキャトロメトリ測定のための照明配置 | 2016年 9月 8日 | |
特表 2016-527658 | 電子ビーム検査中に試料を適応的に走査する方法及びシステム | 2016年 9月 8日 | |
特表 2016-526689 | 液体検査用低コントラストの標準として使用される粒子懸濁液 | 2016年 9月 5日 | |
特表 2016-526699 | 安定性が向上されたCW DUVレーザー | 2016年 9月 5日 |
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2016-533063 2016-531316 2016-531413 2016-178331 2016-530525 2016-530576 2016-529551 2016-529686 2016-528478 2016-528497 2016-167634 2016-527501 2016-527658 2016-526689 2016-526699
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6月12日(木) -
6月12日(木) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月16日(月) - 東京 大田
6月17日(火) -
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6月19日(木) - 大阪 大阪市
6月19日(木) -
6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) -
6月20日(金) - 愛知 名古屋市
6月16日(月) - 東京 大田
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