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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第444位 78件
(
2015年:第473位 71件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第483位 58件
(
2015年:第1019位 20件)
(ランキング更新日:2026年4月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2016-525214 | 試料の欠陥検出及び光ルミネセンス測定のための系及び方法 | 2016年 8月22日 | |
| 特表 2016-524798 | プラズマセル内の対流を制御するための方法及びシステム | 2016年 8月18日 | |
| 特開 2016-148679 | アクティブな平面オートフォーカス | 2016年 8月18日 | |
| 特表 2016-524155 | 計測標的の偏光測定及び対応する標的設計 | 2016年 8月12日 | |
| 特表 2016-524334 | 自由形態の保護領域を使用するウエハ検査 | 2016年 8月12日 | |
| 特開 2016-145999 | デザイナ・インテント・データを使用するウェハとレチクルの検査の方法およびシステム | 2016年 8月12日 | |
| 特表 2016-523356 | 熱流束を測定するための方法及びシステム | 2016年 8月 8日 | |
| 特開 2016-139811 | ウェハ上で検出された欠陥をビン範囲に従って分けるように構成されたシステム | 2016年 8月 4日 | |
| 特表 2016-522136 | 非線形光学結晶の不動態化 | 2016年 7月28日 | |
| 特表 2016-522564 | 電子光学系MEMS用電荷排出塗膜 | 2016年 7月28日 | |
| 特表 2016-522565 | モジュールをウエハ基板上に取り付ける方法 | 2016年 7月28日 | |
| 特開 2016-136151 | 検査データと組み合わせて設計データを使用するための方法 | 2016年 7月28日 | |
| 特表 2016-520955 | 光維持プラズマにおける対流を制御するための方法及びシステム | 2016年 7月14日 | |
| 特表 2016-519782 | 193nmレーザ及び193nmレーザを用いた検査システム | 2016年 7月 7日 | |
| 特開 2016-122860 | 半導体製造プロセスのための方法とシステム | 2016年 7月 7日 |
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2016-525214 2016-524798 2016-148679 2016-524155 2016-524334 2016-145999 2016-523356 2016-139811 2016-522136 2016-522564 2016-522565 2016-136151 2016-520955 2016-519782 2016-122860
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