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ケーエルエー−テンカー　コーポレイション

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ケーエルエー−テンカー　コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2016-508627	１９３ｎｍレーザー及び検査システム	2016年 3月22日
特表 2016-508295	テンプレート画像マッチングを用いたウェーハ上の欠陥検出	2016年 3月17日
特表 2016-507058	パターン化された欠陥の輪郭ベースのアレイ検査	2016年 3月 7日
特開 2016-29376	検査データと組み合わせて設計データを使用するための方法	2016年 3月 3日
特表 2016-505211	レーザのスペクトル帯域幅の低減	2016年 2月18日
特表 2016-505218	活性プラズマ内原位置測定のための高温センサウェーハ	2016年 2月18日
特表 2016-504569	最適化されたシステムパラメータによる光学計測のための装置および方法	2016年 2月12日
特表 2016-502655	表面検査における照明エネルギー管理	2016年 1月28日
特表 2016-502729	収差補正およびイオンダメージ軽減のためのイメージインテンシファイア管設計	2016年 1月28日
特表 2016-502750	欠陥特定情報を用いるウェハ上の欠陥の検出	2016年 1月28日
特表 2016-502755	高アスペクト比及び大きい横方向寸法の構造体のための計測システム及び方法	2016年 1月28日
特開 2016-15497	半導体装置レシピ管理システム及び方法	2016年 1月28日
特表 2016-502075	リアルタイムで膜の歪みを割り出して欠陥寸法測定を行うための膜厚、屈折率、及び消衰係数の決定	2016年 1月21日
特表 2016-502094	相対的なクリティカルディメンションの測定のための方法および装置	2016年 1月21日
特開 2016-11962	検査データと組み合わせて設計データを使用するための方法	2016年 1月21日

78 件中 61-75 件を表示

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2016-508627 2016-508295 2016-507058 2016-29376 2016-505211 2016-505218 2016-504569 2016-502655 2016-502729 2016-502750 2016-502755 2016-15497 2016-502075 2016-502094 2016-11962

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