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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第422位 98件
(2016年:第444位 78件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第472位 54件
(2016年:第483位 58件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6158795 | レーザパルスマルチプライヤを用いた半導体検査および計測システム | 2017年 7月 5日 | |
特許 6153596 | スペクトルルミネセンス測定のための方法および装置 | 2017年 6月28日 | |
特許 6141271 | 局所パージングによる大気分子汚染管理 | 2017年 6月 7日 | |
特許 6141884 | ウェハ検査用に拡張された欠陥のサイジング範囲 | 2017年 6月 7日 | |
特許 6140075 | 構造の非対称特性の判定方法 | 2017年 5月31日 | |
特許 6132838 | 照明制御 | 2017年 5月24日 | |
特許 6129334 | パルス照射を使用する移動画像の高速取得のための方法および装置 | 2017年 5月17日 | |
特許 6131250 | 光ルミネセンス画像化を使用する発光半導体デバイスの検査の方法および装置 | 2017年 5月17日 | |
特許 6131323 | 水を含むレーザー維持プラズマ管球 | 2017年 5月17日 | |
特許 6125506 | 問題のある高度プロセス制御パラメータの検出及び訂正のための方法及びシステム | 2017年 5月10日 | |
特許 6127170 | ウェハ上で検出された欠陥をビン範囲に従って分けるように構成されたシステム | 2017年 5月10日 | |
特許 6117115 | 生産ワークピースを処理するように構成されたワークピース処理ツール内のプロセス条件を測定するためのプロセス条件測定デバイス(PCMD)および方法 | 2017年 4月19日 | |
特許 6117778 | マルチコラム電子ビーム装置および方法 | 2017年 4月19日 | |
特許 6113872 | リングライト照明器およびリングライト照明器用のビームシェーパー | 2017年 4月12日 | |
特許 6099626 | 向上したプロセス制御のための品質測定値を提供するための方法およびシステム | 2017年 3月22日 |
54 件中 31-45 件を表示
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6158795 6153596 6141271 6141884 6140075 6132838 6129334 6131250 6131323 6125506 6127170 6117115 6117778 6113872 6099626
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